武汉帝尔激光科技股份有限公司彭岳仑获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉帝尔激光科技股份有限公司申请的专利一种吸盘及检测设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223342158U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422806834.3，技术领域涉及：B66C1/02；该实用新型一种吸盘及检测设备是由彭岳仑;卫哲;雷晶;黄海;彭书朋;朱凡设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种吸盘及检测设备在说明书摘要公布了：公开一种吸盘及检测设备。吸盘包括第一吸附部、第二吸附部和导流部；第一吸附部设置吹气腔，外缘包括多个沿周向布置的缝隙开口，吹气腔连通各缝隙开口且吹气腔的气流截面积大于缝隙开口的气流截面积，其中，吹气腔连接压缩气；导流部在第一吸附部的外侧对应缝隙开口设置；第二吸附部设置在第一吸附部外侧非导流部的位置，第二吸附部包括多个沿周向分布的吸附区，每个吸附区的吸附面均设置多个吸附孔，吸附孔通过吸附腔连接真空发生器；其中，第二吸附部的吸附面相对第一吸附部的表面凸起，第二吸附区表面通过机加工保证表面平面度，从而保证吸附硅片平整，通过先开第一吸附部，再开第二吸附区关闭第一吸附区，可以节省流量。
本实用新型一种吸盘及检测设备在权利要求书中公布了：1.一种吸盘，其特征在于，所述吸盘包括第一吸附部、第二吸附部和导流部； 所述第一吸附部设置有吹气腔，所述吹气腔的外缘包括多个沿周向布置的缝隙开口，所述吹气腔连通各所述缝隙开口且所述吹气腔的气流截面积大于所述缝隙开口的气流截面积，其中，所述吹气腔连接压缩气； 所述导流部在所述第一吸附部的外侧对应所述缝隙开口设置，沿所述缝隙开口向外延伸，提供气体的导流通道；其中，所述导流部和所述缝隙开口底部高度相同； 所述第二吸附部设置在所述第一吸附部外侧非导流部的位置，所述第二吸附部包括多个沿周向分布的吸附区，每个所述吸附区的吸附面均设置多个吸附孔，吸附孔通过吸附腔连接真空发生器； 其中，第二吸附部的吸附面的相对第一吸附部的表面凸起。
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