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龙图腾网获悉常州维普半导体设备有限公司申请的专利一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120014067B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510114126.X，技术领域涉及：G06T7/80；该发明授权一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法是由徐东亮设计研发完成，并于2025-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法，方法的步骤中包括：S1：选取掩膜版设计文件中有图形的选定区域，输出所述选定区域的矢量点；S2：采用AOI检测设备采集对应实物掩膜版上对应于选定区域的实际图像；S3：在选定区域的水平方向上设置水平向公差范围，并进行步骤S31：采用水平向公差范围内不同的水平公差补偿值分别将步骤S1输出的矢量点填充渲染成第一渲染图像；将不同水平公差补偿值渲染得到的第一渲染图像分别和实际图像进行配准，采用评价方法评价不同水平公差补偿值对第一渲染图像和实际图像的契合度的影响，将评价结果最好的水平公差补偿值作为水平方向标定的公差。通过该方法有利于提高缺陷检测的精度和准确度。

本发明授权一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法在权利要求书中公布了：1.一种用于掩膜版缺陷检测的掩膜版标定方法，其特征在于，方法的步骤中包括： S1：选取掩膜版设计文件中有图形的选定区域，输出所述选定区域的矢量点； S2：采用AOI检测设备采集对应实物掩膜版上对应于选定区域的实际图像； S3：在选定区域的水平方向上设置水平向公差范围，并进行步骤S31：采用水平向公差范围内不同的水平公差补偿值分别将步骤S1输出的矢量点填充渲染成第一渲染图像；将不同水平公差补偿值渲染得到的第一渲染图像分别和实际图像进行配准，采用评价方法评价不同水平公差补偿值对第一渲染图像和实际图像的契合度的影响，将评价结果最好的水平公差补偿值作为水平方向标定的公差； S4：在选定区域的垂直方向上设置垂直向公差范围，并进行步骤S41：采用垂直向公差范围内不同的垂直公差补偿值分别将步骤S1输出的矢量点填充渲染成第二渲染图像；将不同垂直公差补偿值渲染得到的第二渲染图像分别和实际图像进行配准，采用评价方法评价不同垂直公差补偿值对第二渲染图像和实际图像的契合度的影响，将评价结果最好的垂直公差补偿值作为垂直方向标定的公差。

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