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龙图腾网获悉吉林省巨程智造光电技术有限公司申请的专利一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120366699B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510833296.3，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法及应用是由杨东来;高斯凯;张慧;许军;李薇;周正设计研发完成，并于2025-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法及应用在说明书摘要公布了：本发明涉及光学薄膜技术领域，具体是一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法及应用，为了提高光学镜片的耐污性能与抗反射性能，本发明在光学镜片表面进行了多层镀膜处理，本发明在对镜片进行抛光、清洁处理后，对其表面进行了进一步的蚀刻活化处理，增加后续镀膜层的接触面积，增加咬合点，改善镀膜与玻璃基体之间的结合强度；并且，本发明还在其表面溅射了一层硅膜，并分别在氢气氩气混合氛围下和SF6与氩气混合气体氛围中处理硅层，从而形成硅层的不同性质改性，提升与玻璃基体之间的结合性能，并在这一基础上对其表面溅射一层具有高透光率的氟钙层，从而最终实现了镜片的低反射性能。

本发明授权一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种半导体制造用纳米光学镜片的多层镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.将玻璃镜片表面研磨处理，经粗抛光、细抛光后，备用； S2.将抛光后的玻璃镜片置于去离子水中，超声清洗10~20min后，热风干燥表面后，再次将其分别置于丙酮、无水乙醇中，超声清洗10~20min后，干燥，备用； S3.将经清洗后的玻璃镜片置于蚀刻气体与活化气体中，控制工作气压为0.05~0.15Pa，蚀刻活化15~30min后，抽真空，再次通入纯净的活化气体，控制工作气压为0.1~0.25Pa，继续处理5~10min后，取出，得到活化玻璃镜片； 其中，所述蚀刻气体为C2F6；所述活化气体为氧气；所述蚀刻气体与活化气体的体积比为（1~4）：1； 蚀刻活化时，工作电压为800~1200V，升温至350~450℃； S4.将活化玻璃镜片置于真空溅射反应镀膜机中，抽真空后，向其中通入氩气，控制气压为0.01~0.1Pa，对其中频磁控溅射，溅射源使用高纯硅靶，溅射，溅射功率为5~10kW； S5.将表面溅射硅层后的镜片置于氢气、氩气的混合气体氛围中，控制真空度为0.001~0.1Pa后，控制工作电压为1.2~3kV，处理2~4min后，在镜片表面形成硅氢层后，将工作气体氛围切换为SF6与氩气的混合气体氛围，维持工作气压，继续处理30~45s后，形成氟硅层，取出，备用； S6.将表面形成氟硅层的镜片置于真空室内，使用CaF2陶瓷靶材作为溅射源，抽真空后，向其中通入氩气与SF6混合气体氛围，控制工作气压为0.1~2.5Pa，溅射结束后，得到半导体制造用纳米光学镜片。

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