西北工业大学张继巍获国家专利权
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龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120406072B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510900468.4,技术领域涉及:G03H1/08;该发明授权一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法是由张继巍;刘安茹;王灵珂;赵建林设计研发完成,并于2025-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法在说明书摘要公布了:本发明属于光学显微三维成像技术领域,具体涉及一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法。在满足全内反射的条件下,令激光入射角度由大到小变化,激发穿透深度由浅到深的倏逝波来照明样品,利用二次曝光数字全息干涉术探测有无样品时反射光波的反射相移差分布,并结合菲涅耳公式计算不同穿透深度下近场区域样品折射率相对于反射相移差的理论曲线,逐像素、逐层解调样品折射率分布,从而实现宽场、无标记近场三维成像。
本发明授权一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法在权利要求书中公布了:1.一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法,其特征在于包括如下步骤: 步骤1:构建由玻璃基底和折射率小于玻璃基底的样品组成的全内反射结构,样品周围为水性介质,计算玻璃基底-水性介质界面发生全内反射的临界角θc; 步骤2:在大于θc的前提下,每间隔Δθ取N个角度分别作为全内反射结构的入射角度θii=1,2…N,计算对应入射角度下玻璃基底-水性介质界面发生全内反射时倏逝波的穿透深度dzi,以θ1对应的dz1作为第一层厚度d1,θi对应的第i层厚度di为dzi-dzi-1,得到N组入射角度θi与分层厚度di的对应数据; 步骤3:采用偏振态平行光分别以θi倾斜入射到玻璃基底-样品界面并发生全内反射,其中,携带样品信息的反射光波作为物光波,与未被样品调制的参考光波干涉并形成全息图Hii=1,2…N,利用光波衍射理论重建得到物光波的相位分布φix,y,记为实验步骤;移除样品后重复该实验步骤,记录对应的背景全息图H0i并重建得到相位分布φ0ix,y;所述x,y为二维空间坐标; 步骤4:利用步骤3获得的相位分布数据计算得到反射光波相位差分布ΔΦix,y=φix,y-φ0ix,y,将ΔΦix,y输入到解调算法中逐像素、逐层解调出样品的折射率三维分布nx,y,z,实现近场层析显微成像;所述解调算法的工作过程为: 当光束的入射角度为θ1时,全内反射产生的倏逝波仅穿透厚度为d1的第一层样品,此时反射相移φ1x,y仅与第一层样品及玻璃基底的折射率有关,背景反射相移φ01x,y仅与水性介质及玻璃基底的折射率有关,已知玻璃基底和水性介质的折射率,通过理论拟合第一层样品的折射率与对应的反射光波相位差的关系,将理论值与实验值ΔΦ1x,y最接近时对应的折射率作为第一层样品的折射率; 当入射角度由θ1减小至θ2时,倏逝波穿透深度较d1增加d2,此时反射相移φ2x,y与第一层样品的厚度和折射率、第二层样品及玻璃基底的折射率有关,背景反射相移φ02x,y仍仅与水性介质及玻璃基底的折射率有关,将解调出的第一层样品折射率作为已知,通过理论拟合的方式解调出第二层样品的折射率;重复上述步骤即可逐像素、逐层解调出样品的三维折射率分布。
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