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龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利一种校正强度衍射层析术像面强度的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120434520B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510933632.1，技术领域涉及：H04N23/95；该发明授权一种校正强度衍射层析术像面强度的方法是由张继巍;张宇鹤;张佳伟;赵建林设计研发完成，并于2025-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种校正强度衍射层析术像面强度的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及计算光学成像技术领域，具体公开了一种校正强度衍射层析术像面强度的方法。在基于LED阵列照明的条件下，利用图像边缘明暗过渡特征计算边缘方差值，并结合阈值条件筛选并去除受渐晕效应影响的图像。将记录图像为明场图像的灯珠位置与图像受渐晕效应影响的灯珠位置做“与”运算，得到需要进行曝光时间校正的灯珠位置。按照像面强度与相机曝光时间的线性关系，通过记录各灯珠照明下两次不同曝光时间的图像，得到不同灯珠位置处的强度线性系数项和常数项，进而根据中心灯珠照明时的像面强度及曝光时间，计算出其他位置灯珠的曝光时间，最终实现对不同灯珠照明下的像面强度校正，有效提高强度衍射层析术的重建质量。

本发明授权一种校正强度衍射层析术像面强度的方法在权利要求书中公布了：1.一种校正强度衍射层析术像面强度的方法，其特征在于包括如下步骤： 步骤1：在清晰成像条件下，设置LED阵列的曝光时间为T1，设定预设条件，通过强度衍射层析成像系统得到不同位置灯珠照明的强度图像； 步骤2：选择方形掩模版，取出每张图像的边缘值，展开为一维向量后计算边缘强度方差值s2，结合阈值条件得到图像受渐晕效应影响的灯珠位置； 步骤3：将曝光时间设为T2，满足T2≠T1，重复步骤1，得到不同位置灯珠照明下的强度图像，结合曝光时间T1记录的图像，计算不同灯珠位置（m,n）处图像强度的线性修正系数km ,n和常数项bm,n，具体过程为： ； 其中，LED阵列有x×y个灯珠，满足1≤m≤x和1≤n≤y，I1 m,n和I2 m,n分别是曝光时间为T1和T2下、灯珠位置为（m,n）处的图像平均强度，m和n分别表示LED阵列上灯珠位置的横向和纵向坐标； 步骤4：将记录明场图像的灯珠位置与图像受渐晕效应影响的灯珠位置进行运算，得到需要进行曝光时间校正的灯珠位置；所述明场图像是指当不同位置的灯珠被点亮时，会发出不同照明角度的入射光，当入射光的数值孔径NAillum小于等于显微物镜的数值孔径NAobj时，显微物镜能够全部收集这些入射光并形成明场图像； 步骤5：点亮中心位置的LED灯珠并选择曝光时间T3，记录像面强度I0，利用需要进行曝光时间校正的位置灯珠（m,n）的曝光时间Tm,n与像面强度I0的线性关系通过曝光时间公式确定，不需要进行曝光时间校正的灯珠曝光时间设置为T3，计算出其他位置灯珠的曝光时间，实现对不同灯珠照明下的像面强度校正；所述曝光时间公式为：。

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