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龙图腾网获悉湖南初源新材料股份有限公司申请的专利含有蒽甲基修饰三聚氰胺光敏剂的感光树脂组合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120469157B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510953493.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权含有蒽甲基修饰三聚氰胺光敏剂的感光树脂组合物及其应用是由董万荣;肖志义;李雯雯;夏涌清设计研发完成，并于2025-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本含有蒽甲基修饰三聚氰胺光敏剂的感光树脂组合物及其应用在说明书摘要公布了：本发明提供了含有蒽甲基修饰三聚氰胺光敏剂的感光树脂组合物、感光干膜及其应用，该光敏剂采用三聚氰胺骨架连接三个蒽9‑甲基结构，通过三聚氰胺骨架的刚性结构和蒽基团的亚甲基桥连（‑CH2‑An）设计，具有显著优势：亚甲基桥连结构，避免了因为p‑π共轭所导致的烷氧基上碳氧键的断裂，进而减少引发后小分子片段的迁移，有效抑制向聚乙烯保护膜渗透结晶，显著降低线路短路风险；多个感光单元的引入，可大大提升光量子产率；三聚氰胺骨架的使用，可有效提升该引发体系在金属箔面的附着力；此外，该光敏剂还展现出了优异的溶解性和配方相容性，可广泛应用于干膜、油漆、涂料、油墨及成型材料等光固化领域。

本发明授权含有蒽甲基修饰三聚氰胺光敏剂的感光树脂组合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种感光树脂组合物，其特征在于，按质量份计，包含： 碱可溶性树脂A，50-65份； 光聚合单体B，35-50份，其选自烯属不饱和羧酸和或烯属不饱和羧酸酯； 光引发剂C，2-5份，其选自双咪唑化合物；和 光敏剂D，0.1-1份， 其特征在于，所述光敏剂为具有式（I）结构的蒽甲基修饰三聚氰胺： （I） 其中，R选自氢、C1-C12烷基、C3-C12环烷基、C2-C12不饱和烃基、C6-C12芳基、被一个或多个C1-C6烷基取代的C6-C12芳基、被一个名多个C1-C6烷氧基取代的C6-C12芳基中的一种； R’、R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢、C1-C12烷基、C3-C12环烷基、C2-C12不饱和烃基、C1-C12烷氧基、C6-C12芳基或芳氧基、被一个或多个C1-C6烷基取代的C6-C12芳基或芳氧基、被一个名多个C1-C6烷氧基取代的C6-C12芳基或芳氧基、卤素、氰基、硝基中的一种； 其中，所述感光树脂组合物通过以下光致自由基聚合反应机理进行光固化：所述蒽甲基修饰三聚氰胺受到可见光激发产生蒽自由基，引发所述双咪唑化合物均裂，产生咪唑自由基，所述咪唑自由基活化所述烯属不饱和羧酸和或烯属不饱和羧酸酯，发生交联固化。

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