DIC株式会社若原圭佑获国家专利权
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龙图腾网获悉DIC株式会社申请的专利能够脱离的皮膜形成用组合物获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117460794B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202280040672.8,技术领域涉及:C09D11/102;该发明授权能够脱离的皮膜形成用组合物是由若原圭佑;樱井宗矩;工藤隆晃;江波户博;伊东聪子;川岛康成;永川健太郎设计研发完成,并于2022-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本能够脱离的皮膜形成用组合物在说明书摘要公布了:本发明提供一种皮膜形成用组合物,其能够对通用塑料基材以简便的方法容易地脱离皮膜层。本发明的皮膜形成用组合物为能够脱离的皮膜形成用组合物,用于在基材A的表面直接或夹隔着其他层形成利用碱溶液中的处理脱离的皮膜,所述皮膜形成用组合物含有具有羟值、重均分子量为45000以上并且数均分子量为10000以上的氨基甲酸酯树脂。优选所述皮膜形成用组合物中的所述羟值为1.0mgKOHg~30.0mgKOHg。
本发明授权能够脱离的皮膜形成用组合物在权利要求书中公布了:1.一种皮膜形成用组合物,其为能够脱离的皮膜形成用组合物,用于在基材A的表面直接或夹隔着其他层形成利用碱溶液中的处理脱离的皮膜, 所述皮膜形成用组合物含有羟值为1.0mgKOHg~30.0mgKOHg、重均分子量为45000以上并且数均分子量为10000以上的氨基甲酸酯树脂, 所述氨基甲酸酯树脂的酸值为10.0mgKOHg以下。
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