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龙图腾网获悉南阳利达光电有限公司申请的专利一种超宽角度穿透近红外光AR膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116047637B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210932334.7，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权一种超宽角度穿透近红外光AR膜是由刘中华;焦涛涛;陈军;周李园;高亚丽设计研发完成，并于2022-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种超宽角度穿透近红外光AR膜在说明书摘要公布了：本发明公开了一种超宽角度穿透近红外光AR膜，包括基材和镀在基材上的AR膜，所述AR膜由内到外由第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜、第二低折射率膜、第三高折射率膜、第三低折射率膜、第四高折射率膜、第五高折射率膜、第四低折射率膜、第六高折射率膜、第七高折射率膜、第五低折射率膜、第八高折射率膜、第九高折射率膜、第六低折射率膜组成。本发明设计方案结构简单、膜层应力小，非常适合工业化批量生产。

本发明授权一种超宽角度穿透近红外光AR膜在权利要求书中公布了：1.一种超宽角度穿透近红外光AR膜，包括基材和镀在基材上的AR膜，所述AR膜由内到外由第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜、第二低折射率膜、第三高折射率膜、第三低折射率膜、第四高折射率膜、第五高折射率膜、第四低折射率膜、第六高折射率膜、第七高折射率膜、第五低折射率膜、第八高折射率膜、第九高折射率膜、第六低折射率膜组成；所述第一高折射率膜镀设于基材层上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种，厚度50-103nm；所述第一低折射率膜镀设于第一高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2,厚度30-85nm；所述第二高折射率膜镀设于第一低折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种，厚度100-200nm；所述第二低折射率膜镀设于第二高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2，厚度80-150nm；所述第三高折射率膜镀设于第二低折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种，厚度65-120nm；所述第三低折射率膜镀设于第三高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2,厚度70-140nm；所述第四高折射率膜镀设于第三低折射率膜上，膜层材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度90-170nm；所述第五高折射率膜镀设于第四高折射率膜上，膜层材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度55-120nm；所述第四低折射率膜镀设于第五高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2,厚度270-540nm；所述第六高折射率膜镀设于第四低折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度100-220nm；所述第七高折射率膜镀设于第六高折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度70-170nm；所述第五低折射率膜镀设于第七高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2，厚度20-60nm；所述第八高折射率膜镀设于第五低折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种，厚度14-30nm；所述第九高折射率膜镀设于第八高折射率膜上，膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种，厚度90-190nm；所述第六低折射率膜镀设于第九高折射率膜上，膜层材料为SIO2或MGF2任意的一种，厚度180-340nm；所述基材为光学玻璃时，AR膜系在近红外波段，入射角0°-30°时最大反射率＜0.2%，入射角50°时最大反射率＜0.6%，入射角60°时最大反射率＜0.8%。

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