深圳市拉普拉斯能源技术有限公司林佳继获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市拉普拉斯能源技术有限公司申请的专利沉积处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115323359B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211108837.9，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权沉积处理装置是由林佳继;张武;刘群设计研发完成，并于2022-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积处理装置在说明书摘要公布了：本发明属于膜层沉积技术领域，公开了一种沉积处理装置，沉积处理装置包括炉体，炉体内设有进气板和抽气板，抽气板与进气板相对设置，以能够使基体设置于二者之间；进气板和抽气板上具有均匀分布的第一气孔，进气板和抽气板上还具有第二气孔，第二气孔与第一气孔通过布气通道连通以能够使气体流通于第一气孔和第二气孔之间。通过在抽气板与进气板上均匀设置第一气孔，并将基体置在抽气板与进气板之间，使基体的反应区域被气体均匀覆盖，提高沉积膜层的均匀性。
本发明授权沉积处理装置在权利要求书中公布了：1.沉积处理装置，用于等离子体增强化学气相沉积，其特征在于，包括： 炉体7，所述炉体7用于容纳基体5； 进气板4，所述进气板4设置于所述炉体7内； 抽气板3，所述抽气板3与所述进气板4相对设置于所述炉体7内，以能够使所述基体5置于二者之间；其中： 所述进气板4和所述抽气板3上设有均匀布置的第一气孔1、与外部设备连通的第二气孔2以及连通所述第一气孔1和所述第二气孔2的布气通道8，使所述基体5的反应区域被气体均匀覆盖，提高沉积膜层的均匀性； 所述布气通道8还包括一级布气通道81以及二级布气通道82，所述第二气孔2连通所述一级布气通道81，所述一级布气通道81连通至少一个所述二级布气通道82，所述二级布气通道82连通多个所述第一气孔1； 所述布气通道8包括三级布气通道83，若干所述第一气孔1经所述三级布气通道83连接形成布气单元，多个所述布气单元与所述二级布气通道82连通。
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