广东省大湾区集成电路与系统应用研究院苏晓菁获国家专利权
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龙图腾网获悉广东省大湾区集成电路与系统应用研究院申请的专利一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117608172B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311792601.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置是由苏晓菁;韦亚一;李静静;粟雅娟设计研发完成，并于2023-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置，通孔桥连缺陷概率的计算方法包括：获取双重曝光工艺下两层光刻掩膜版图的第一通孔和第二通孔，第一通孔的位置在套刻误差范围内沿预设方向波动，固定第二通孔的位置；划分第一通孔和第二通孔的位置关系；计算每一位置关系中第一通孔和第二通孔之间的距离；获取双重曝光工艺下桥连缺陷的阈值距离；根据阈值距离和每一位置关系中第一通孔和第二通孔之间的距离，确定不同位置关系中的安全区间；根据套刻误差的高斯概率密度分布和不同位置关系中的安全区间，确定发生通孔桥连缺陷的概率。本发明可以快速、准确的计算通孔桥连缺陷的概率。
本发明授权一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种通孔桥连缺陷概率的计算方法，其特征在于，包括： 获取双重曝光工艺下两层光刻掩膜版图的第一通孔和第二通孔，所述第一通孔的位置在套刻误差范围内沿预设方向波动，固定所述第二通孔的位置；其中，所述第一通孔为第一层光刻掩膜版图的通孔图形，所述第二通孔为第二层光刻掩膜版图的通孔图形； 划分所述第一通孔和所述第二通孔的位置关系； 获取双重曝光工艺下桥连缺陷的阈值距离； 根据所述阈值距离与每一位置关系中所述第一通孔和所述第二通孔之间的最小距离，确定每一位置关系中所述最小距离大于所述阈值距离的位置点； 根据每一位置关系中所述最小距离大于所述阈值距离的位置点，确定不同位置关系中的安全区间； 根据套刻误差的高斯概率密度分布和不同位置关系中的安全区间，确定发生通孔桥连缺陷的概率。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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