光科芯图(北京)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉光科芯图(北京)科技有限公司申请的专利一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118778370B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410296903.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质。本发明提供的一种全息掩模信息生成方法，一种全息掩模信息生成方法，包括：获取晶圆表面的初始强度信息，根据初始强度信息获取晶圆表面的随机相位信息；将初始强度信息和随机相位信息进行模拟传播处理和离散化处理以获得离散化相位信息；受离散化相位信息调制后的入射光进行滤波处理后传播到晶圆表面，并获得晶圆表面的实际强度信息；基于实际强度信息和初始强度信息获得梯度值；判断梯度值是否小于或等于预设值，若是，则基于离散化相位信息和预设振幅值输出全息掩模信息。解决了全息掩模在光刻过程中存在全息散斑的问题。
本发明授权一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种全息掩模信息生成方法，其特征在于，包括： 获取晶圆表面的初始强度信息，根据初始强度信息获取晶圆表面的随机相位信息； 将初始强度信息和随机相位信息进行模拟传播处理和离散化处理以获得离散化相位信息； 受离散化相位信息调制后的入射光进行滤波处理后传播到晶圆表面，并获得晶圆表面的实际强度信息； 基于实际强度信息和初始强度信息获得梯度值； 判断梯度值是否小于或等于预设值； 若是，则基于离散化相位信息和预设振幅值输出全息掩模信息； 若否，则将离散化相位信息作为随机相位信息，并迭代将初始强度信息和随机相位信息进行模拟传播处理和离散化处理的过程。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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