佛山市国星半导体技术有限公司陈凯获国家专利权
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龙图腾网获悉佛山市国星半导体技术有限公司申请的专利一种AlGaN基深紫外LED芯片及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118448544B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410540920.6,技术领域涉及:H10H20/831;该发明授权一种AlGaN基深紫外LED芯片及其制备方法是由陈凯;周鑫;徐亮;范凯平;郑洪仿;钟美云设计研发完成,并于2024-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种AlGaN基深紫外LED芯片及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种AlGaN基深紫外LED芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域,AlGaN基深紫外LED芯片包括外延片、以及设置在外延片上的p型电极和n型电极,n型电极上设置有叠层结构,叠层结构包括依次层叠设置在n型电极上的ITO层、第一Al层、第一金属层、第二Al层、第二金属层和第三Al层;其中,ITO层由若干阵列设置的ITO半球组成,第一Al层填平若干阵列设置的ITO半球之间的间隙。本发明通过在n型电极上设置叠层结构,叠层结构中阵列设置的ITO半球,以及层叠设置Al层和金属层,能有效改善n型电极的电流分散性,以及减少n型电极对光的损耗,有利于提高AlGaN基深紫外LED芯片的发光效率。
本发明授权一种AlGaN基深紫外LED芯片及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种AlGaN基深紫外LED芯片,包括外延片、以及设置在所述外延片上的p型电极和n型电极,其特征在于,所述n型电极上设置有叠层结构,所述叠层结构包括依次层叠设置在所述n型电极上的ITO层、第一Al层、第一金属层、第二Al层、第二金属层和第三Al层;其中,所述ITO层由若干阵列设置的ITO半球组成,所述第一Al层填平所述若干阵列设置的ITO半球之间的间隙; 在所述ITO半球的作用下,所述第一Al层与所述ITO层接触的一面形成凹凸不平的糙面;所述ITO半球形成微腔,所述第一Al层的Al元素附着在所述微腔上形成所述微腔的金属结构,所述微腔和所述金属结构形成谐振腔。
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