江西耀驰科技有限公司;江西兆驰半导体有限公司金钊获国家专利权
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龙图腾网获悉江西耀驰科技有限公司;江西兆驰半导体有限公司申请的专利一种正极性红外LED的外延结构及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118919623B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411183507.5,技术领域涉及:H10H20/816;该发明授权一种正极性红外LED的外延结构及其制备方法是由金钊;曹广亮;徐洲;胡加辉;金从龙设计研发完成,并于2024-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种正极性红外LED的外延结构及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及半导体材料的技术领域,公开了一种正极性红外LED的外延结构及其制备方法,所述外延结构包括依次层叠设置的缓冲层、N‑AlGaAs电流扩展层、N‑AlGaAs限制层、多量子阱层、P‑AlGaAs限制层、P‑AlGaAs电流扩展层、P型GaAs欧姆接触层,P‑AlGaAs电流扩展层为C掺杂AlGaAs层和Mg掺杂AlGaAs层周期性交替层叠形成的超晶格,有利于将外延层的空穴分布得更加均匀,生长出高质量、高均匀性的外延层,提高LED芯片的良率,同时减少吸光,有效提高发光效率和发光强度。
本发明授权一种正极性红外LED的外延结构及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种正极性红外LED的外延结构,其特征在于,包括依次层叠设置的缓冲层、N-AlGaAs电流扩展层、N-AlGaAs限制层、多量子阱层、P-AlGaAs限制层、P-AlGaAs电流扩展层、P型GaAs欧姆接触层; 其中,所述P-AlGaAs电流扩展层为C掺杂AlGaAs层和Mg掺杂AlGaAs层周期性交替层叠形成的超晶格,周期数为33~150,每个周期中,所述C掺杂AlGaAs层位于所述Mg掺杂AlGaAs层的下方; 所述Mg掺杂AlGaAs层生长完成后进行退火处理,随后生长下一周期的C掺杂AlGaAs层,所述退火处理为:保持温度650℃~720℃进行退火5s~10s。
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