星钥半导体(武汉)有限公司杨东获国家专利权
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龙图腾网获悉星钥半导体(武汉)有限公司申请的专利一种清洗装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223325047U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422233160.2,技术领域涉及:B08B1/12;该实用新型一种清洗装置是由杨东设计研发完成,并于2024-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种清洗装置在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种清洗装置,应用于半导体技术领域,包括:清洗腔、保湿腔、清洗刷和传送装置;清洗腔设置有清洗刷第一进出口;保湿腔设置有保湿液进口和清洗刷第二进出口;保湿腔设置在清洗腔的外侧;清洗刷第一进出口和清洗刷第二进出口连通;传送装置和清洗刷连接,带动清洗刷从清洗腔的内部移动至保湿腔的内部,或从保湿腔的内部移动至清洗腔的内部。本实用新型添加了保湿腔和传送装置,当清洗刷空闲时,通过传送装置可以将清洗刷从清洗腔的内部移动至保湿腔的内部,通过保湿腔的保湿液进口,向保湿腔的内部提供保湿液,通过保湿液对清洗刷进行保湿,通过保湿后的清洗刷对晶圆进行清洗不仅能够提高清洁效果,而且能够避免损伤晶圆。
本实用新型一种清洗装置在权利要求书中公布了:1.一种清洗装置,其特征在于,包括:清洗腔、保湿腔、清洗刷和传送装置; 所述清洗腔设置有清洗刷第一进出口;所述保湿腔设置有保湿液进口和清洗刷第二进出口;所述保湿腔设置在所述清洗腔的外侧;所述清洗刷第一进出口和所述清洗刷第二进出口连通; 所述传送装置和所述清洗刷连接,带动所述清洗刷从所述清洗腔的内部移动至所述保湿腔的内部,或从所述保湿腔的内部移动至所述清洗腔的内部。
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