华海清科股份有限公司马钰皓获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利晶圆后处理装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119833452B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510314832.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权晶圆后处理装置和方法是由马钰皓;曹自立;李长坤;郭薇;高庆刚设计研发完成，并于2025-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆后处理装置和方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶圆后处理装置和方法，属于半导体制造技术领域，该晶圆后处理装置包括：箱体；支撑组件，设置于箱体中，其包括主动轮和从动轮，以竖向支撑并带动晶圆转动；清洗刷，水平设置于箱体中并绕轴线转动，以刷洗晶圆；所述从动轮内部设置有垫圈，所述垫圈的外周壁配置有凹槽，用于卡接晶圆的边缘；所述凹槽的第一内侧壁和第二内侧壁配置有纹理结构，以增强晶圆卡接的可靠性。
本发明授权晶圆后处理装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆后处理装置，其特征在于，包括： 箱体； 支撑组件，设置于箱体中，其包括主动轮和从动轮，以竖向支撑并带动晶圆转动； 清洗刷，水平设置于箱体中并绕轴线转动，以刷洗晶圆； 所述从动轮内部设置有垫圈，所述垫圈的外周壁配置有凹槽，用于卡接晶圆的边缘；所述凹槽的第一内侧壁和第二内侧壁配置有纹理结构，以增强晶圆卡接的可靠性；所述纹理结构为凹凸结构，其沿垫圈的周向均匀分布；纹理结构包括间隔分布的多个凸起，相邻凸起形成凹部；所述凸起刺破凹槽形成的液膜，以排出垫圈中的液体； 所述垫圈配置有排液孔，其贯通设置于凹槽且与环形槽相连通，所述环形槽同心设置于垫圈的侧面，环形槽的深度大于凹部的深度，使得经由凹部进入凹槽中的含有颗粒物的液体在环形槽汇聚，并经由排液孔排放至垫圈外侧。
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