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国科大杭州高等研究院杨万丽获国家专利权

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龙图腾网获悉国科大杭州高等研究院申请的专利一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120231121B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510703918.0,技术领域涉及:C30B19/06;该发明授权一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟是由杨万丽;林虹宇;张天宁;朱家旗;单玉凤;俞国林;戴宁设计研发完成,并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟在说明书摘要公布了:本发明提供一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟,包括母液槽块、槽板以及底托,母液槽块放置于槽板上,母液槽块和槽板一同放置于底托内,槽板上设置有用于放置衬底的衬底槽以及用于放置挥发源的挥发源槽,衬底槽和挥发源槽均开设于槽板面向母液槽块的一面,其中,母液槽块上设置有母液孔和吸附孔,母液孔内形成有用于放置母液的放置空间,且母液孔内放置有补偿件,补偿件与放置空间相接触,吸附孔与母液孔间隔设置,吸附孔内设置有吸附件。这样,实现母液成分的稳定,避免蒸汽凝结干扰,保护衬底,提升外延材料质量与成品率。

本发明授权一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟在权利要求书中公布了:1.一种用于镓铟系合金液相外延生长的石墨舟,其特征在于,包括母液槽块、槽板以及底托,所述母液槽块放置于所述槽板上,所述母液槽块和所述槽板一同放置于所述底托内,所述槽板上设置有用于放置衬底的衬底槽以及用于放置挥发源的挥发源槽,所述衬底槽和所述挥发源槽均开设于所述槽板面向所述母液槽块的一面,其中,所述母液槽块上设置有母液孔和吸附孔,所述母液孔内形成有用于放置母液的放置空间,且所述母液孔内放置有补偿件,所述补偿件与所述放置空间相接触,所述吸附孔与所述母液孔间隔设置,所述吸附孔内设置有吸附件,所述补偿件呈片状且与所述母液的顶部相接触, 所述衬底为锑化镓材质,所述补偿件为砷化铟材质,所述吸附件为锑化镓材质,所述挥发源为金属镓材质,或者 所述衬底为砷化铟材质,所述补偿件为砷化镓材质,所述吸附件为砷化镓材质,所述挥发源为金属铟材质。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人国科大杭州高等研究院,其通讯地址为:310024 浙江省杭州市西湖区象山支弄1号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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