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龙图腾网获悉北京量子信息科学研究院;西安幂辉科技有限责任公司申请的专利一种金属膜片电容复合式真空计获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120445516B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510944621.3，技术领域涉及：G01L21/00；该发明授权一种金属膜片电容复合式真空计是由李铁夫;请求不公布姓名;王文彦;王宇清设计研发完成，并于2025-07-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种金属膜片电容复合式真空计在说明书摘要公布了：本发明公开了一种金属膜片电容复合式真空计，本发明涉及真空计技术领域，包括真空计本体以及控制模块，且所述真空计本体的下侧固定连接有下封块，所述下封块的下侧固定连接有连接管，所述连接管与真空计本体的内部连通设置，所述真空计本体的内壁上侧固定连接有电极，所述电极的下侧设置有电容膜片，所述电极与电容膜片不接触，所述连接管的内部开设有缓冲腔，所述缓冲腔的内部设置有缓冲机构，所述连接管的外侧设置有检测机构,本发明通过设置有连接管、气道及挡块，能够在发生气流反冲时有效阻挡高速气体上涌，减缓对电容膜片造成的瞬时冲击，避免膜片形变量超限造成读数偏差或器件损坏，具有实用性强和提升系统对复杂工况适应能力的特点。

本发明授权一种金属膜片电容复合式真空计在权利要求书中公布了：1.一种金属膜片电容复合式真空计，包括真空计本体（1）以及控制模块，其特征在于：且所述真空计本体（1）的下侧固定连接有下封块（2），所述下封块（2）的下侧固定连接有连接管（3），所述连接管（3）与真空计本体（1）的内部连通设置，所述真空计本体（1）的内壁上侧固定连接有电极（4），所述电极（4）的下侧设置有电容膜片（5），所述电极（4）与电容膜片（5）不接触，所述连接管（3）的内部开设有缓冲腔（6），所述缓冲腔（6）的内部设置有缓冲机构（7），所述连接管（3）的外侧设置有检测机构（8）； 所述缓冲机构（7）包括底座（701），所述底座（701）的下表面与缓冲腔（6）的内壁下侧固定连接，所述底座（701）的上侧固定连接有弹簧（702），所述弹簧（702）的上端固定连接有挡块（703），所述挡块（703）位于下封块（2）中部，所述挡块（703）的外壁与下封块（2）内壁接触，所述挡块（703）的内侧开设有气道（704）； 所述缓冲腔（6）的内径大于连接管（3）的内径以及下封块（2）的内径，所述缓冲腔（6）的内腔体积小于被测腔体积，所述连接管（3）的下侧通过缓冲腔（6）、下封块（2）的内侧与电容膜片（5）下侧连通设置。

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