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龙图腾网获悉湖南金柏威医疗科技有限公司;武汉金柏威光电技术有限公司申请的专利基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120478004B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510981615.5，技术领域涉及：A61F2/28；该发明授权基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构是由姜晓兵;王璇;邱辉设计研发完成，并于2025-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构在说明书摘要公布了：本申请涉及一种基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构，涉及颅骨修复技术领域，包括适配于颅骨缺损区域的修补片，修补片上设有多个槽体和贯穿其厚度方向的孔体，且孔体内设有可切换状态的阻隔件。槽体开设于修补片朝向头皮的一侧，用于引导头皮软组织生长并增强修补片与颅骨的融合；孔体用于修复结构安装手术后头皮软组织的攀爬生长，阻隔件在头皮软组织生长进入孔体后，在其重力作用下由连通状态自动切换为隔断状态，从而限制头皮软组织穿透至大脑侧。该结构在促进头皮软组织与修补片整合的同时，有益于保护脑组织，提升修复效果与修复结构安装手术后的安装安全性。

本发明授权基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构在权利要求书中公布了：1.一种基于PEEK颅骨修补材料的颅骨缺损修复结构，其特征在于，包括修补片1，所述修补片1被配置为与颅骨缺损部分的形状相适配，所述修补片1上设有多个槽体2和多个孔体3，其中，所述槽体2被配置为开设于所述修补片1朝向头皮层的第一侧11，所述孔体3沿所述修补片1的厚度方向贯穿所述修补片1； 还包括阻隔件4，所述阻隔件4设于所述孔体3内，所述阻隔件4具有第一状态和第二状态，所述阻隔件4被配置为在第一状态时，连通所述孔体3的第一端开口和所述孔体3的第二端开口，以及在第二状态时隔断所述孔体3的第一端开口和第二端开口，其中，所述第一状态被配置为在头皮软组织沿所述修补片1的第一侧11从颅骨缺损边缘进入所述孔体3并靠近阻隔件4后逐渐切换至第二状态； 所述孔体3包括轴向连通的第一孔道31及第二孔道32，所述第一孔道31靠近所述修补片1朝向头皮层的第一侧11，所述第二孔道32靠近所述修补片1朝向大脑层的第二侧12，所述阻隔件4设于所述第一孔道31与所述第二孔道32的连接处； 所述第二孔道32的内径小于所述第一孔道31的内径，所述第一孔道31靠近所述第二孔道32的内端壁处具有凸台311，所述阻隔件4设于所述凸台311上。

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