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龙图腾网获悉中国兵器科学研究院宁波分院;博格华纳汽车零部件(宁波)有限公司申请的专利一种工业CT散射线校正板的加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115971805B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211647162.5，技术领域涉及：B23P15/00；该发明授权一种工业CT散射线校正板的加工方法是由唐盛明;齐果;杨晓禹;张立君;齐子诚;董珈静;康晶杰;郑颖;郭琦;徐艺凡设计研发完成，并于2022-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种工业CT散射线校正板的加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种工业CT散射线校正板的加工方法，属于材料加工技术领域。包括以下步骤：1铜合金下料；2机加工前处理工艺；3机加工处理；4机加工后处理；5磁控溅射前处理工艺；6磁控溅射处理工艺；7抛光微调。本发明通过磁控溅射处理工艺能有效的提高射线校正板的耐蚀性，同时增加粗糙度，从而降低成本和提高准确度。

本发明授权一种工业CT散射线校正板的加工方法在权利要求书中公布了：1.一种工业CT散射线校正板的加工方法，其特征在于包括以下步骤： 1铜合金下料 根据CT设备所使用的散射线校正板的尺寸采用线切割对铜板进行下料切割； 2机加工前处理工艺 切割完成后的构件进行超声冲洗，去除表面油污和屑渣； 3机加工处理 根据构件的大小与设备需求进行微孔的开设，同时将开孔后的构件表面粗糙度处理至16微米以下； 4机加工后处理 将步骤3加工完成的构件进行超声波水洗，去除表面油污和屑渣，再依次进行化学除油、去离子水洗涤，清洗后采用常温吹干； 5磁控溅射前处理工艺 首先需要采用丙酮和酒精对步骤4处理后的构件进行超生冲洗3～10min，完成后进行晾干，然后在磁控溅射设备中采用高纯度钨靶轰击5～20min，控制磁控溅射设备初始负偏压为800-1000V、腔室压力为5～7×10-4Pa、温度为400～600℃； 6磁控溅射处理工艺 在空心阴极辅助多弧离子镀复合沉积设备中采用高纯度Ta10W靶沉积Wu膜层10～30min；继续抽真空，进行Ta10W膜层的沉积5-15min；WuTa-10W涂层如此往复2～3次后，沉积Wu膜层60～180min，形成一个多层结构后，待构件的各个涂层相互扩散与熔合后，调节至常温后冷却构件，对构件进行去离子水清洗； 7抛光微调 将步骤6获得构件采用抛光机与抛光布进行抛光，然后进行清洗，室温下晾干，得到工业CT散射线校正板； 步骤3所述微孔呈梯形，所述微孔采用六轴数控钻床进行梯形微孔的加工，加工完成后采用数控车床进行散射线校正板整体的加工，加工完成后保证表面粗糙度在16微米以下； 步骤6所述空心阴极辅助多弧离子镀复合沉积设备中沉积Wu膜层时，空心阴极辅助多弧离子镀复合沉积设备电流调节在80-150A，初始负偏压为800-1000V，腔室压力为5～7×10-4Pa，温度为400～600℃，将反应气体Ar充入，流速为0.05～0.35Lmin； 所述形成一个多层结构后，调节温度为200～400℃，保温时间为180～300min，使构件的各个涂层相互扩散与熔合。

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