湖南壹鑫科技有限公司邱成获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南壹鑫科技有限公司申请的专利一种高雾度、高亮度的扩散膜、其制备方法及背光模组获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116243412B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310248025.2，技术领域涉及：G02B5/02；该发明授权一种高雾度、高亮度的扩散膜、其制备方法及背光模组是由邱成;冯正午设计研发完成，并于2023-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高雾度、高亮度的扩散膜、其制备方法及背光模组在说明书摘要公布了：本发明提供一种高雾度、高亮度的扩散膜，包括基材、光扩散层、防粘连层和透光率调节层，并在透光率调节层中使用具有凸透镜结构的片状气相二氧化硅聚合物颗粒调节扩散膜的透光率；所述片状气相二氧化硅聚合物颗粒的粒径为0.2～1.7μm，折光率为1.84。本发明在透光率调节层中使用具有凸透镜结构的片状气相二氧化硅聚合物颗粒，利用其凸透镜的特殊形态可实现聚光的原理，增加全光线的透光率，使透光率调节层在不影响光学扩散膜的雾度和遮盖的前提下能有效的提升和控制光学扩散膜的透光率，在既可以保持良好遮盖性能的前提下大幅度提升了背光膜组的亮度。本发明还提供一种高雾度、高亮度的扩散膜的制备方法及背光模组。
本发明授权一种高雾度、高亮度的扩散膜、其制备方法及背光模组在权利要求书中公布了：1.一种高雾度、高亮度的扩散膜，其特征在于，包括基材、设置在基材一侧的光扩散层、设置在基材另一侧的防粘连层与设置在光扩散层和基材之间的透光率调节层，并在透光率调节层中使用具有凸透镜结构的片状气相二氧化硅聚合物颗粒调节扩散膜的透光率； 以重量份数计，所述光扩散层包括16～18份树脂成膜物，21.7～23.5份球形光扩散粒子和0.5～1份助剂；所述光扩散层的厚度为4～10μm；树脂成膜物的折光率为1.4～1.6；所述球形光扩散粒子的粒径为3～10μm； 以重量份数计，所述透光率调节层包括12～13份树脂成膜物、1.2～3.6份片状气相二氧化硅聚合物和0.8～1.0份助剂；所述透光率调节层的厚度为1～2μm；树脂成膜物的折光率为1.67，所述片状气相二氧化硅聚合物颗粒的粒径为0.2～1.7μm，折光率为1.84。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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