天津吉兆源科技有限公司李树瑜获国家专利权
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龙图腾网获悉天津吉兆源科技有限公司申请的专利一种调节离子源均匀性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117558606B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310431350.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种调节离子源均匀性的方法是由李树瑜;孟子淇设计研发完成，并于2023-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种调节离子源均匀性的方法在说明书摘要公布了：本申请提供的一种调节离子源均匀性的方法，具体步骤如下：步骤1，安装离子源进行测试；步骤2，根据伞面接收端的传感器所采集到离子束强度，观察离子束均匀度是否满意；步骤3，若离子束均匀度满意度为否，反推强离子束对应栅网的径向位置；步骤4，拆下离子源的栅网，选择栅孔安装遮蔽组件；步骤5，重复步骤1至步骤4，直至离子束均匀度达到满意。栅网上安装有一个或多个遮蔽组件。本方法采用陶瓷螺钉固定金属片的方式遮挡强离子束对应的引出孔，可以根据离子源实际情况，在离子源安装后再次调整遮挡栅网孔，操作便捷，有效节约重新栅网孔的流程及成本。
本发明授权一种调节离子源均匀性的方法在权利要求书中公布了：1.一种调节离子源均匀性的方法，其特征在于：具体步骤如下： 步骤1，安装离子源进行测试，伞面接收端与离子源上、下间隔设置，测试中离子源与伞面接收端相对同轴转动，伞面接收端均匀布置有传感器； 步骤2，根据伞面接收端的传感器所采集到离子束强度，形成束流分布图，观察离子束均匀度是否满意； 步骤3，若离子束均匀度满意度为是，结束调节； 若离子束均匀度满意度为否，则根据束流分布图确定强离子束位置，反推强离子束对应栅网的径向位置； 步骤4，拆下离子源的栅网，根据上一步骤获得的径向位置，选择该径向位置圆周上的栅孔作为遮蔽孔，在选定的遮蔽孔位置安装遮蔽组件，然后重新安装栅网； 步骤5，重复步骤1至步骤4，直至离子束均匀度达到满意； 所述反推过程： d＝D·LR 其中，d为栅孔到栅网中心的距离，L是栅孔区中心到栅孔区边缘的距离，D是强离子束中心点到伞面接收端中心点的距离，R是伞面接收端离子投射区中心到伞面接收端离子投射区边缘的间距。
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