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龙图腾网获悉西安炬光科技股份有限公司申请的专利光学元件涂胶区域的最小面积确定方法及光学元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116777978B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310745445.1，技术领域涉及：G06T7/62；该发明授权光学元件涂胶区域的最小面积确定方法及光学元件是由郝亚龙;刘鑫;孙俊;张宏伟设计研发完成，并于2023-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学元件涂胶区域的最小面积确定方法及光学元件在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及光学技术领域，公开了一种光学元件涂胶区域的最小面积确定方法、光学元件、激光发射装置、计算设备及计算机可读存储介质，该方法包括：获取光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S1；确定加速因子AFTH；根据光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S1和加速因子AFTH，确定在目标工作场景下光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S2；基于光学元件涂胶区域中未被水汽渗透区域的胶水结合力F满足机械冲击后胶层不脱落，确定F≥sτ＝ma；根据s＝S0‑S2，m＝S0Dρ，确定S0‑S2τ＝S0Dρa；基于S0‑S2τ＝S0Dρa，确定S0＝S2ττ‑Dρa＝[S1·AFTH·TT0·τ]τ‑Dρa；确定在目标工作场景下光学元件涂胶区域的最小面积S≥S0。通过上述方式，本申请实施例解决了胶水成本高，存在资源浪费的问题。

本发明授权光学元件涂胶区域的最小面积确定方法及光学元件在权利要求书中公布了：1.一种光学元件涂胶区域的最小面积确定方法，其特征在于，所述方法包括： 获取在预定温度Tu和预定湿度RHu条件下，经过预定时长T0后，所述光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S1； 根据哈尔伯格-佩克模型，确定加速因子AFTH； 根据所述光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S1和所述加速因子AFTH，确定在目标工作场景下所述光学元件涂胶区域中被水汽渗透区域的面积S2，具体如下： S2＝S1·AFTH·TT0，其中，T为在所述目标工作场景下所述光学元件的工作时长； 基于光学元件涂胶区域中未被水汽渗透区域的胶水结合力F满足机械冲击后胶层不脱落，确定F≥sτ＝ma，其中，s为在所述目标工作场景下所述光学元件涂胶区域中未被水汽渗透区域的面积，τ为胶层剪切强度，m为胶层质量，a为机械冲击加速度； 基于sτ＝ma，根据s＝S0-S2，m＝S0Dρ，确定S0-S2τ＝S0Dρa，其中，S0为在所述目标工作场景下所述光学元件涂胶区域的所需面积，D为在所述目标工作场景下所述光学元件涂胶区域的胶层厚度，ρ为所述光学元件涂胶区域的胶层密度； 基于S0-S2τ＝S0Dρa，确定S0＝S2ττ-Dρa＝[S1·AFTH·TT0·τ]τ-Dρa； 确定在所述目标工作场景下所述光学元件涂胶区域的最小面积S≥S0。

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