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龙图腾网获悉北京工业大学申请的专利铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117966139B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311775713.0，技术领域涉及：C23C18/40；该发明授权铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法是由赵治;周羽洁;宋晓艳;王海滨设计研发完成，并于2023-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及功能材料与微纳器件领域，公开了一种铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法。所述的方法包括：I‑1分别将铜盐、光还原剂、中性多齿配体与第一去离子水接触，配制铜盐母液、光还原剂母液和中性多齿配体母液；I‑2将所述铜盐母液、所述光还原剂母液、所述中性多齿配体母液和第二去离子水混合，配制前体溶液；I‑3将所述前体溶液滴加到基底表面上，采用紫外光光照进行光化学反应，在所述基底表面上沉积铜膜。本发明利用光化学反应而非常规催化反应进行液相金属沉积，本发明的方法简单、可高效完成图案化沉积与共形沉积、适用于复杂形状基底和或器件内壁。

本发明授权铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法在权利要求书中公布了：1.一种在基底表面光化学沉积铜的方法，其特征在于，所述的方法包括： （I-1）分别将铜盐、光还原剂、中性多齿配体与第一去离子水接触，配制铜盐母液、光还原剂母液和中性多齿配体母液； （I-2）将所述铜盐母液、所述光还原剂母液、所述中性多齿配体母液和第二去离子水混合，配制前体溶液； （I-3）将所述前体溶液滴加到基底表面上，采用紫外光光照进行光化学反应，在所述基底表面上沉积铜膜； 其中，所述铜盐选自氯化铜、硫酸铜和硝酸铜中的一种或多种； 所述光还原剂包括抗坏血酸钠、酒石酸钠和草酸钠中的一种或多种； 所述中性多齿配体包括乙二胺、二乙烯三胺、五乙烯六胺、五甲基二乙烯三胺和1,1,4,7,10,10-六甲基三亚乙基四胺中的一种或多种； 所述铜盐母液的浓度为0.1-10molL； 所述光还原剂母液的浓度为0.1-10molL； 所述中性多齿配体母液的浓度为0.1-10molL； 在步骤（I-2）和或步骤（II-2）中，相对于1000μL的所述铜盐母液、所述光还原剂母液和所述中性多齿配体母液的总量，所述第二去离子水的用量为100-1000μL； 所述前体溶液中，铜离子的浓度为1-100mM； 所述前体溶液中，铜离子与所述光还原剂的浓度比为（0.1-2）：1；其中，所述前体溶液中，铜离子与所述中性多齿配体的浓度比为（0.2-10）：1。

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