深圳光峰科技股份有限公司王珊获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳光峰科技股份有限公司申请的专利光栅结构制作系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223320614U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422273288.1，技术领域涉及：G02B5/18；该实用新型光栅结构制作系统是由王珊;赵家琦;周冲琪;李屹设计研发完成，并于2024-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本光栅结构制作系统在说明书摘要公布了：本申请提供一种光栅结构制作系统，包括：光源组件，用于发射第一光束和第二光束，所述第一光束与所述第二光束沿不同的光路传播；掩模组件，为一体式结构，包括第一光栅相位掩模和第二光栅相位掩模，所述第一光栅相位掩模与所述第二光栅相位掩模的光栅周期不同，所述第一光栅相位掩模位于所述第一光束的传播光路上，用于衍射所述第一光束后形成第一曝光光束；所述第二光栅相位掩模位于所述第二光束的传播路径上，用于衍射所述第二光束后形成第二曝光光束；曝光基底，用于承载曝光材料，所述第一曝光光束和第二曝光光束分别入射至所述曝光基底的不同位置，以在当所述曝光材料放置在所述曝光基底上时在所述曝光材料的不同位置处形成周期不同的光栅结构。
本实用新型光栅结构制作系统在权利要求书中公布了：1.一种光栅结构制作系统，其特征在于，包括： 光源组件，用于发射第一光束和第二光束，所述第一光束与所述第二光束沿不同的光路传播； 掩模组件，所述掩模组件为一体式结构，包括第一光栅相位掩模和第二光栅相位掩模，所述第一光栅相位掩模与所述第二光栅相位掩模的光栅周期不同，所述第一光栅相位掩模位于所述第一光束的传播光路上，用于衍射所述第一光束后形成第一曝光光束；所述第二光栅相位掩模位于所述第二光束的传播路径上，用于衍射所述第二光束后形成第二曝光光束； 曝光基底，用于承载曝光材料，所述第一曝光光束和第二曝光光束分别入射至所述曝光基底的不同位置，以在当所述曝光材料放置在所述曝光基底上时在所述曝光材料的不同位置处形成周期不同的光栅结构。
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