富士胶片株式会社梅泽朋一获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115503159B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211258427.2，技术领域涉及：B29C33/38；该发明授权图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法是由梅泽朋一设计研发完成，并于2019-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法，其中，该图案原盘在表面具有微细的凹凸图案，该基体在表面具备凹凸结构，该图案原盘具备基体和设置在基体的一个表面上的凹凸结构层，基体的至少一个表面由具有蚀刻停止功能的材料制成，基体暴露于凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部，凹凸图案中，与一个表面垂直的方向上的、凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下。
本发明授权图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种图案原盘，其在表面具有微细的凹凸图案， 该图案原盘具备基体和凹凸结构层，该凹凸结构层设置在该基体的一个面上、且包含沿着所述凹凸图案的多个凸部以及多个凹部， 所述基体的至少所述一个面由具有蚀刻停止功能的材料制成， 所述基体暴露于所述凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部， 在所述凹凸图案中，与所述一个面垂直的方向上的、所述凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下， 所述凹凸结构层为硅的含量为50原子％以上的层，所述基体的所述一个面为将镍作为主要成分的层。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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