弗萨姆材料美国有限责任公司R·M·皮尔斯坦获国家专利权
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龙图腾网获悉弗萨姆材料美国有限责任公司申请的专利在含硅表面上的选择性沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112602169B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980056149.2，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权在含硅表面上的选择性沉积是由R·M·皮尔斯坦设计研发完成，并于2019-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本在含硅表面上的选择性沉积在说明书摘要公布了：一种用于选择性钝化衬底表面的方法，其中所述衬底表面包括包含氮化硅的至少第一表面和包含除氮化硅以外的材料的至少第二表面。该方法包括将表面暴露于至少一种有机异氰酸酯的步骤，其中所述有机异氰酸酯选择性地与氮化硅反应以使第一表面钝化，从而保留第二表面基本上未反应。
本发明授权在含硅表面上的选择性沉积在权利要求书中公布了：1.一种用于选择性钝化衬底表面的方法，其中所述衬底表面包括包含氮化硅的至少第一表面和包含除氮化硅以外的材料的至少第二表面，该方法包括以下步骤： a.任选地，用氢等离子体或氨等离子体处理所述衬底表面；和 b.将所述衬底表面暴露于包含至少一种具有根据式I的结构的有机异氰酸酯的蒸气： R-N=C=OI， 其中R选自H、取代或未取代的C1-C18直链烷基、取代或未取代的支链C3-C18烷基、取代或未取代的C3-C8环烷基、取代或未取代的C3-C10杂环基、取代或未取代的C3-C18烯基、取代或未取代的C4-C18芳基、取代或未取代的C5-C20芳基烷基和取代或未取代的C3-C10炔基，其中所述至少一种有机异氰酸酯选择性地与所述氮化硅反应以钝化所述第一表面，从而保留所述第二表面未反应。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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