东京毅力科创株式会社池田信太郎获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112863985B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011216079.3,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权等离子体处理装置是由池田信太郎;花冈秀敏;田丸直树设计研发完成,并于2020-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置在说明书摘要公布了:提供一种用于对反应产物附着在设置于等离子体处理装置上的部件之间的间隙的情况进行抑制的等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括:第一部件,设置在处理容器内;以及第二部件,设置在所述第一部件的外侧,其中,在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上,形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。
本发明授权等离子体处理装置在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置,包括: 处理容器;以及 上部电极,布置在所述处理容器的上侧, 所述上部电极具有 电极,具有盘形形状,设置在所述处理容器内;以及 另一个电极,具有环形形状,设置在所述电极的径向外侧,经由间隙与所述电极相对, 其中,所述电极和所述另一个电极中的至少任意一者具有与所述间隙连接,使气体流入所述间隙的气体流路, 所述间隙的尺寸在0.5mm~1mm的范围内。
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