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龙图腾网获悉矽光学有限公司申请的专利光学元件及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116391148B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180064551.2，技术领域涉及：G02F1/13；该发明授权光学元件及其制造方法是由安德烈亚斯·布雷古拉;安德烈·胡贝尔;马库斯·克里普斯坦恩设计研发完成，并于2021-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学元件及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种具有光入射侧和光出射侧的、面状延展的光学元件1。该光学元件包括由具有不同的第一和第二折射率N1、N2的材料制成的、彼此交替的、透明的第一区域和第二区域B1、B2，其中，第一折射率N1大于第二折射率N2。不透明的或可切换为不透明的第一和第二层OB、AB布置在第二区域B2的光入射面和光出射面上。对于不透明层OB、AB的情况，与切换到透明的层OB、AB的情况相比，穿过光学元件1的光在其传播方向方面受到限制。

本发明授权光学元件及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种面状延展的光学元件，所述光学元件具有光入射侧和光出射侧，所述光学元件包括： 至少由具有第一折射率（N1）的透明的第一材料构成的第一区域（B1）和由具有第二折射率（N2）的透明的第二材料构成的第二区域（B2），所述第一区域和第二区域在光学元件的面上以一维或二维周期性的序列交替出现，其中，在人眼可见的整个波长范围内，第一折射率（N1）大于第二折射率（N2）， 各一个位于每个第二区域（B2）的光入射面上的、永久不透明的或能够在透明状态和不透明状态之间切换的第一层（OB）， 各一个位于每个第二区域（B2）的光出射面上的、永久不透明的或能够在透明状态和不透明状态之间切换的第二层（AB）， 其中，每个第一层（OB）或每个第二层（AB）是永久不透明的，或者，每个第一层（OB）和每个第二层（AB）是永久不透明的， 使得：在光入射侧入射到光学元件上的光，在第一层（OB）处于不透明状态时基于第一层（OB），仅通过第一区域（B1）的光入射面入射到光学元件中，并且所述光在那里根据入射角、偏振和第一折射率（N1）与第二折射率（N2）的比例： a）在第一区域（B1）内无阻碍地传播或被全反射，然后在相应的第一区域（B1）的光出射面上再次耦合输出，或者 b）从第一区域（B1）渗透到相邻的第二区域（B2）中，在所述相邻的第二区域中传播，并且最后在第二层（AB）处于不透明状态时，在其光出射侧被吸收，或者在第二层（AB）处于透明状态时耦合输出，或者 c）在光从第一区域（B1）渗透到相邻的第二区域（B2）中的情况下，则又渗透到另一个相邻的第一区域（B1）中，并且根据随后给定的传播方向和偏振，在光出射面上被耦合输出，或进一步地在光学元件中传播，直到光被耦合输出或被吸收， 由此，在至少第一层（OB）和或第二层（AB）不透明的情况下，与在光入射侧上入射到光学元件上的光相比，在光出射侧上从光学元件发出的光在其传播方向上受到限制， 第二区域（B2）的光入射面上的每个第一层（OB）由永久吸收层和或由至少一个从光学元件反射离开的层构成，和或， 第二区域（B2）的光出射面上的每个第二层（AB）由永久吸收层构成。

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