华为技术有限公司李志海获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利微纳层结构的制作方法、加工装置以及电子器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114772545B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210248455.X，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权微纳层结构的制作方法、加工装置以及电子器件是由李志海;张适;王浩宇;蒋珺楠设计研发完成，并于2022-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本微纳层结构的制作方法、加工装置以及电子器件在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种微纳层结构的制作方法、加工装置以及电子器件，制作方法包括提供掩膜件，掩膜件包括第一区域和第二区域，第一区域大于第二区域的磁场强度；提供基板，基板包括基体以及原胶层，原胶层包括胶体和磁性粒子；将掩膜件与基板相对，且所述掩膜件与所述基板之间具有预设距离，第一区域的磁性力驱动磁性粒子移动，以使原胶层形成图案化掩膜层；图案化掩膜层包括掩膜部和间隔区，以图案化掩膜层为掩膜，蚀刻基体，以使基体形成图案化的介质层；去除图案化的介质层上剩余的图案化掩膜层以形成介质层。利用磁性力驱动磁性粒子，掩膜件与原胶层不接触，加工清洁度较高，成品率提升，制作过程简单，提升了加工效率。
本发明授权微纳层结构的制作方法、加工装置以及电子器件在权利要求书中公布了：1.一种微纳层结构的制作方法，包括： 提供掩膜件，所述掩膜件具有导磁性或磁性，所述掩膜件包括交替分布的第一区域和第二区域，所述第一区域的磁场强度大于所述第二区域的磁场强度； 提供基板，所述基板包括基体以及设于所述基体上的原胶层，所述原胶层包括胶体和掺杂于所述胶体内的磁性粒子； 将所述掩膜件与所述基板相对，且所述掩膜件与所述基板之间具有预设距离，所述第一区域的磁性力驱动与所述第一区域对应的磁性粒子移动，以使所述原胶层形成图案化掩膜层；所述图案化掩膜层包括交错分布的掩膜部和间隔区，所述掩膜部的磁性粒子密集度大于所述间隔区的磁性粒子密集度；且所述掩膜部和所述间隔区中的一个与所述第一区域对应，另一个与所述第二区域对应； 以所述图案化掩膜层为掩膜，蚀刻所述基体，以使所述基体形成图案化的介质层； 去除图案化的介质层上剩余的所述图案化掩膜层以形成介质层。
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