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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115564895B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211210392.5，技术领域涉及：G06T17/00；该发明授权一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法是由杨华;张志远;尹周平设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法，包括如下步骤：1获取待测流场的重建粒子场；2对重建粒子场进行第一次去卷积操作，得到第一预测粒子场；3根据第一预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计；4利用最新估计得到的各向异性卷积核对重建粒子场进行去卷积操作，得到第二预测粒子场；5根据第二预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计；6重复步骤4和5，直至满足迭代停止条件；7利用步骤6估计得到的各向异性卷积核对重建粒子场进行去卷积操作，得到修复粒子场。与现有技术相比，本发明具有有效恢复原始粒子球形形状，显著抑制重建粒子场中鬼影粒子的特点。

本发明授权一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法在权利要求书中公布了：1.一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）获取待测流场的重建粒子场； （2）对所述重建粒子场进行第一次去卷积操作，得到第一预测粒子场； （3）根据所述第一预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计； （4）利用最新估计得到的各向异性卷积核对所述重建粒子场进行去卷积操作，得到第二预测粒子场； （5）根据所述第二预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计； （6）重复步骤（4）和（5），直至满足迭代停止条件； （7）利用步骤（6）估计得到的各向异性卷积核对所述重建粒子场进行去卷积操作，得到修复粒子场； 步骤（3）和（5）中，通过如下公式来实现各向异性卷积核估计： 其中，k代表各向异性卷积核；u代表预测粒子场；v代表重建粒子场；表示卷积操作；为求一阶导数算子；代表L2范数的平方；分别为第一、第二、第三权重系数，、、分别为对x、y、z方向进行求一阶导数算子； 步骤（4）中，通过如下公式来实现对所述重建粒子场进行去卷积操作： 其中，为第四权重系数； 步骤（7）中，通过如下公式来实现对所述重建粒子场进行去卷积操作： 其中，分别为第五、第六权重系数；代表L0范数；代表全变分范数；和分别代表一个体素在不同强度下成为真实粒子和鬼影粒子的概率。

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