中国地质大学(武汉)冯庆高获国家专利权
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龙图腾网获悉中国地质大学(武汉)申请的专利一种确定基坑落底式止水帷幕接缝渗漏的方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115726382B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211504058.0,技术领域涉及:E02D19/18;该发明授权一种确定基坑落底式止水帷幕接缝渗漏的方法及装置是由冯庆高;冯晓腊;孙杨;王娴婕;熊峰;冯钰淞设计研发完成,并于2022-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种确定基坑落底式止水帷幕接缝渗漏的方法及装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种确定基坑落底式止水帷幕接缝渗漏的方法及装置,所述方法包括,获取基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的平面位置和三维流固耦合数值计算模型;基于所述接缝处渗漏的平面位置,设置不同的接缝处渗漏参数;将所述不同的接缝处渗漏参数结合所述三维流固耦合数值计算模型进行计算,建立渗漏参数与坑外地下水位和地面沉降之间的定量关系;根据所述定量关系,确定基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的具体位置和范围。本发明适用于富水地层落底式止水帷幕存在渗漏风险,且需对渗漏风险区进行渗漏点识别的工程施工;同时对止水帷幕穿透多层含水层处其他类型的止水帷幕渗漏的识别同样适用。
本发明授权一种确定基坑落底式止水帷幕接缝渗漏的方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种确定基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的方法,其特征在于,所述方法包括, 获取基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的平面位置和三维流固耦合数值计算模型;其中,获取基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的平面位置包括: 获取基坑落底式止水帷幕接缝周边的实际水位降深、地面沉降数据; 对基坑落底式止水帷幕接缝周边的实际水位降深进行分析,获取基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的平面位置; 基于所述接缝处渗漏的平面位置,设置不同的接缝处渗漏参数;其中, 所述不同的接缝处渗漏参数包括,多个竖向渗漏位置及其对应的渗漏范围;所述竖向渗漏位置设置在地表以下的含水层范围内; 将所述不同的接缝处渗漏参数结合所述三维流固耦合数值计算模型进行计算,建立渗漏参数与坑外地下水位和地面沉降之间的定量关系;其中,所述建立渗漏参数与坑外地下水位和地面沉降之间的定量关系包括, 对所述三维流固耦合数值计算模型进行验证优化; 将所述不同的接缝处渗漏参数结合优化后的三维流固耦合数值计算模型进行计算,得到不同渗漏参数下的坑外地下水位和地面沉降的定量数据; 对不同渗漏参数下的坑外地下水位和地面沉降的定量数据进行分析,建立渗漏参数与坑外地下水位、地面沉降之间的定量关系; 根据所述定量关系,确定基坑落底式止水帷幕接缝处渗漏的具体位置和范围。
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