浙江厚积科技有限公司苏晓平获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江厚积科技有限公司申请的专利一种光电结合的CMP用研磨垫及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116713894B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310813089.2，技术领域涉及：B24B37/20；该发明授权一种光电结合的CMP用研磨垫及其制作方法是由苏晓平;单希基;涂婳设计研发完成，并于2023-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光电结合的CMP用研磨垫及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明提供的一种光电结合的CMP用研磨垫，包括：一基垫，所述基垫上设置有呈十字形分布的多条第一容置区域与第二容置区域，所述第一容置区域与第二容置区域将基垫的一个端面分割成棋盘状分布的多个研磨部，所述第一容置区域用以设置发光灯条，所述第二容置区域用以设置或者露出金属件，所述金属件与发光灯条之间不发生干涉。本发明利用光电场效应，提高研磨效率，并且通过合理的棋盘状的结构，分配金属件的露出面积与研磨面积，避免二氧化硅的沉积，保证SiC的抛除，提高抛光效率。
本发明授权一种光电结合的CMP用研磨垫及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种光电结合的CMP用研磨垫，其特征在于，包括： 一基垫，所述基垫上设置有呈十字形分布的多条第一容置区域与第二容置区域，所述第一容置区域与第二容置区域将基垫的一个端面分割成棋盘状分布的多个研磨部，所述第一容置区域用以设置发光灯条，所述第二容置区域用以露出金属件，所述金属件与发光灯条之间不发生干涉； 所述光电结合的CMP用研磨垫采用以下制作方法成型： S100：选取定量的聚氨酯搅拌之后，对其进行发泡处理形成混合溶胶，在混合溶胶内加入定量的氧化铈粉与助剂并混合均匀后通入模具内进行成型冷却，获得基垫； S200：对基垫按照十字纹路进行切割形成下凹的槽体，所述槽体交错分布，且对其中横向分布的槽体进行贯穿开孔处理，由此构成第一容置区域与第二容置区域的切割成型； S300：在基垫的正面构成的第一容置区域内铺设发光灯条，并在基垫的背面固定金属件，金属件完全覆盖基垫的背面，由此得到光电结合的CMP用研磨垫。
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