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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117323310B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311254284.2，技术领域涉及：A61K9/70；该发明授权一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法是由朱锦涛;李文琴;陈森斌设计研发完成，并于2023-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法，属于生物材料技术领域。制备方法为：将第一聚二甲基硅氧烷、第二聚二甲基硅氧烷和第三聚二甲基硅氧烷、镇定消炎活性成分、水、乳化剂、防腐剂和增稠剂混合均匀，得到乳液；向该乳液中加入气相二氧化硅，形成共混物；再逐滴加入pH调节剂；将羟乙基纤维素加入所得的共混物中，再加入催化剂，获得基底液；将获得的基底液置于膜具中，抽真空，即可获得镇定消炎聚合物薄膜。本发明制备得到的聚合物薄膜具有良好的机械性能，在自然状态下可以保持适当的张力，以适应皮肤的张力和压力。同时该薄膜在皮肤运动中具有足够的弹性，有助于恢复皮肤的弹性反冲。

本发明授权一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种镇定消炎聚合物薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1将第一聚二甲基硅氧烷、第二聚二甲基硅氧烷和第三聚二甲基硅氧烷、镇定消炎活性成分、水、乳化剂、防腐剂和增稠剂混合均匀，得到乳液； 2向步骤1所得的乳液中加入气相二氧化硅，形成共混物；再逐滴加入pH调节剂调节所述共混物的pH值至5.5～6.5； 3将羟乙基纤维素加入步骤2所得的共混物中，再加入催化剂，获得基底液； 4将步骤3中获得的基底液置于膜具中，抽真空，即可获得镇定消炎聚合物薄膜； 其中，所述第一聚二甲基硅氧烷和第二聚二甲基硅氧烷的分别为含有C＝C键的PDMS1和PDMS1’，所述第三聚二甲基硅氧烷是含有Si-H的PDMS2；含有C＝C键和含有Si-H键的聚二甲基硅氧烷在催化剂的作用下发生硅氢化加成反应；所述PDMS1的粘度为9～15Pa.s，C＝C键含量为0.45～0.55mmolesg；所述PDMS1’的粘度为160～180Pa.s，C＝C键含量为0.01～0.02mmolesg；所述PDMS2的粘度为0.04～0.08Pa.s，Si-H键含量为4.15～4.55mmolesg； 所述第一聚二甲基硅氧烷、第二聚二甲基硅氧烷、第三聚二甲基硅氧烷和气相二氧化硅的质量比为13～18:3～6:2～8:7～9。

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