东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司张生睿获国家专利权
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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利一种版图修正方法、系统、计算机设备、存储介质及计算机程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118446176B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410572757.1，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权一种版图修正方法、系统、计算机设备、存储介质及计算机程序产品是由张生睿;俞宗强;施伟杰;鄢昌莲设计研发完成，并于2024-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种版图修正方法、系统、计算机设备、存储介质及计算机程序产品在说明书摘要公布了：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种版图修正方法、系统、计算机设备、存储介质及计算机程序产品。其中，方法包括：提供初始掩模版图，对初始掩模版图进行光学临近修正处理，获得中间掩模版图；提供坏点检测模型，坏点检测模型基于真实掩模硅片图像训练获得；基于中间掩模版图及坏点检测模型获取中间掩模版图上的坏点；对中间掩模版图上坏点进行修复，获得修正后的最终掩模版图。可以理解的，通过坏点检测模型来弥补光学临近修正模型中光刻胶模型的普适性局限导致的通用性较差的问题，可以更好地对掩模版图上的坏点进行检测和修复；该方法提高了掩模版图修正的准确性，减少了硅片上电路图形的坏点数量，提升了集成电路制造的良率。
本发明授权一种版图修正方法、系统、计算机设备、存储介质及计算机程序产品在权利要求书中公布了：1.一种版图修正方法，其特征在于，所述方法包括： 提供初始掩模版图，对初始掩模版图进行光学临近修正处理，获得中间掩模版图； 提供坏点检测模型，所述坏点检测模型包括对掩模版图进行仿真的仿真子模型，所述坏点检测模型基于真实掩模硅片图像训练获得，训练所述坏点检测模型时，以掩模硅片图像获取的轮廓作为基础轮廓，以所述坏点检测模型仿真后得到模型轮廓作为参照轮廓，以基础轮廓和参照轮廓之间的差值作为评价参数，迭代优化所述坏点检测模型，直至所述基础轮廓和所述参照轮廓之间的差值小于预设值；基于中间掩模版图及坏点检测模型获取中间掩模版图上的坏点； 对中间掩模版图上坏点进行修复，获得修正后的最终掩模版图。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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