广德特旺光电材料有限公司侯闽渤获国家专利权
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龙图腾网获悉广德特旺光电材料有限公司申请的专利一种ITO溅射靶材的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118460974B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410606823.2，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权一种ITO溅射靶材的制备方法是由侯闽渤设计研发完成，并于2024-05-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ITO溅射靶材的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种ITO溅射靶材的制备方法，将不同粒径的氧化铟粉体、氧化锡粉体和纳米氧化锡制成浆料或者溶胶后，经过球磨处理，得到ITO浆料，再浇注到模具中成型，在常压氧气气氛下高温烧结得到ITO溅射靶材。本发明制备得到的ITO溅射靶材均匀性好、密度高，电阻率低，能够保证显示屏的均匀性和一致性，而且该方法具有成本低、生产效率高的优点。
本发明授权一种ITO溅射靶材的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种ITO溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、将D50为1.8～2.0μm的氧化铟粉体加入水中，搅拌分散均匀，然后加入乙酸，搅拌10～20min，然后加入氨水至pH为6～8，再加入分散剂，搅拌分散均匀，得到氧化铟浆料；氧化铟粉体、水、乙酸和分散剂的质量比为40～50：50～60：1～5：2～4； S2、将D50为1.4～1.6μm的氧化锡粉体加入水中，搅拌分散均匀，然后加入乙酸，搅拌10～20min，然后加入氨水至pH为6～8，再加入分散剂，得到氧化锡浆料；氧化锡粉体、水、乙酸和分散剂的质量比为40～50：50～60：1～5：2～4； S3、将纳米氧化锡和分散剂加入水中，超声分散均匀，得到纳米氧化锡溶胶；所述纳米氧化锡的粒径为30～60nm； S4、将所述氧化铟浆料与氧化锡浆料、纳米氧化锡溶胶混合后进行球磨，得到ITO浆料，所述氧化铟粉体、氧化锡粉体、纳米氧化锡的质量比为90：9.5～9.9：0.1～0.5；然后向所述ITO浆料中加入粘结剂混合均匀，浇注到模具中成型后，先在惰性气氛下高温脱脂，然后在常压氧气气氛下高温烧结，得到ITO溅射靶材；所述高温烧结的温度为1500～1600℃，时间为4～10h。
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