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厦门韫茂科技有限公司靳伟获国家专利权

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龙图腾网获悉厦门韫茂科技有限公司申请的专利应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223308949U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422339363.X,技术领域涉及:H01J37/32;该实用新型应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置是由靳伟;魏澜;赵茂生设计研发完成,并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置,涉及等离子体设备技术领域。包括真空腔体、介质平板、大气侧工艺管路、真空侧工艺管路,所述真空侧工艺管路包括有多个平行于所述介质平板的工艺气管分路以使离化气体在真空腔体内均匀分布;每个所述工艺气管分路沿其长度方向均匀分布有多个开口朝向介质窗口的气孔,以使气体从工艺气管分路出来之后直接流向介质窗口,并经过介质窗口反弹后继续流向真空腔体,使得气体反弹区域正好处于等离子体的高离化区域,进而提高工艺气体的离化率。通过本方案可以提高平板型等离子体系统的等离子体分布均匀性。

本实用新型应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置在权利要求书中公布了:1.一种应用于peald设备的平板型等离子体系统的布气装置,包括真空腔体,其特征在于,还包括: 一介质平板,所述介质平板设置于所述真空腔体的远离基片一侧且正对基片位置,用于耦合射频波进入真空腔体,且在所述介质平板上设置有多个介质窗口; 一大气侧工艺管路,所述大气侧工艺管路形成有至少两个进气分路以将工艺气体导入真空腔体内; 一真空侧工艺管路,所述真空侧工艺管路设置于所述真空腔体内部,且连通所述大气侧工艺管路;所述真空侧工艺管路包括有多个平行于所述介质平板的工艺气管分路以使离化气体在真空腔体内均匀分布;每个所述工艺气管分路沿其长度方向均匀分布有多个开口朝向介质窗口的气孔,以使气体从工艺气管分路出来之后直接流向介质窗口,并经过介质窗口反弹后继续流向真空腔体,使得气体反弹区域正好处于等离子体的高离化区域,进而提高工艺气体的离化率。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人厦门韫茂科技有限公司,其通讯地址为:361000 福建省厦门市软件园三期集美大道1300号创新大厦6楼之四十一;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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