广纳四维(广东)光电科技有限公司付晨获国家专利权
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龙图腾网获悉广纳四维(广东)光电科技有限公司申请的专利一种曝光设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223308538U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422915658.7，技术领域涉及：G03F7/00；该实用新型一种曝光设备是由付晨;李晓军;史瑞设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种曝光设备，通过设置用于形成至少两路曝光光束的光源模块，以及在任一路曝光光束传输的方向上，依次设置挡板和掩膜版，对波导片具有至少两个待曝光区域同时进行曝光，沿任一路曝光光束传输的方向上，挡板的透光区在波导片所在的平面的投影轮廓，覆盖对应待曝光区域的至少部分区域，掩膜版在波导片所在的平面的投影轮廓，覆盖对应待曝光区域。由此，同时设置多条曝光路径，能够对波导片上的多个待曝光区域同时进行曝光，提升了曝光效率。另外，每个待曝光区域可以对应多个挡板和一个掩膜版，增加了挡板和掩膜版的利用率，降低了挡板和掩膜版的制备成本。
本实用新型一种曝光设备在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备，其特征在于，包括： 光源模块，用于形成至少两路曝光光束； 沿任一路曝光光束传输的方向上，依次设置的挡板和掩膜版，所述挡板设置有透光区，所述掩膜版设置有周期性光栅掩膜结构，所述透光区用于透过对应路的曝光光束，使对应路的曝光光束照射所述掩膜版，并将所述周期性光栅掩膜结构转移至待曝光的波导片上； 其中，所述波导片具有至少两个待曝光区域，沿任一路曝光光束传输的方向上，所述挡板的透光区在所述波导片所在的平面的投影轮廓，覆盖对应所述待曝光区域的至少部分区域，所述掩膜版在所述波导片所在的平面的投影轮廓，覆盖对应所述待曝光区域；基于所述两路曝光光束能够对所述两个待曝光区域同时进行曝光。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广纳四维(广东)光电科技有限公司，其通讯地址为：510530 广东省广州市黄埔区姬火路6号中巨科学创新城A2-1栋1楼和6楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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