怡通科技有限公司孟凡杰获国家专利权
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龙图腾网获悉怡通科技有限公司申请的专利磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223304529U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423200126.1，技术领域涉及：C23C14/24；该实用新型磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备是由孟凡杰;房臣德设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备，属于镀膜技术领域。该磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备包括镀膜机和支撑调整机构，镀膜机的内部安装有支撑架，镀膜机的前侧安装有闭合门，支撑座固定连接在支撑架内侧两侧的顶部与底部，支撑座的内侧活动连接有支撑杆，支撑杆的表面固定连接有支撑钩，通过设置支撑调整机构，可以为使用者提供调整支撑架内部支撑介质，对外界工件支撑间隔距离调整的介质，并在调整过程中对支撑介质进行导向工作，以便使用者根据工件的实际支撑需求进行调整操作，避免支撑架支撑调整较为不便，导致支撑架支撑工件操作繁琐的情况，因此提高了支撑架的镀膜支撑操作便捷性和灵活性。
本实用新型磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备在权利要求书中公布了：1.磁控溅射、蒸发两用真空挂镀设备，包括镀膜机（1），所述镀膜机（1）的内部安装有支撑架（2），所述镀膜机（1）的前侧安装有闭合门（3），其特征在于； 支撑调整机构，所述支撑调整机构包括： 支撑座（4）；所述支撑座（4）固定连接在支撑架（2）内侧两侧的顶部与底部，所述支撑座（4）的内侧活动连接有支撑杆（5），所述支撑杆（5）的表面固定连接有支撑钩（6）； 调整槽（7）；所述调整槽（7）开设在支撑座（4）的内侧，所述调整槽（7）的内部活动连接有调整座（8），所述调整座（8）的内侧与支撑杆（5）的外侧活动连接； 调整拆卸机构；所述调整拆卸机构活动连接在支撑杆（5）的底部。
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