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龙图腾网获悉苏州军精鑫精密科技有限公司申请的专利一种晶圆吸盘结构及制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120109073B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510280950.2，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权一种晶圆吸盘结构及制备工艺是由李发义;瞿绍军设计研发完成，并于2025-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆吸盘结构及制备工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及晶圆吸盘制备技术领域，具体地说，涉及一种晶圆吸盘结构及制备工艺。包括支撑台固定安装在吸附板下表面，支撑台上表面中心位置开设有通孔，通孔外表面四周开设有对接孔，支撑台上表面外围四周开设有凹槽，凹槽内部一侧固定连接有引气管，支撑台内部中心位置开设有进气槽，进气槽内壁下表面四周固定连接有导气管，导气管表面一侧开设有导气槽。形成气压差，且引气管是分布在支撑台表面四周，并通过吸附板和吸气孔和晶圆下表面四周连通，同时引气管远离晶圆下表面外壁，可在对晶圆紧实固定在吸附板上表面，也有效避免拉扯力可能会导致边缘出现微小的裂纹或者破损，对晶圆造成损害，保证对晶圆的正常生产。

本发明授权一种晶圆吸盘结构及制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种晶圆吸盘结构，其特征在于：包括吸附板（100）、支撑台（200）和外壳（300）； 所述吸附板（100）上表面靠近中心位置四周开设有引气孔（101），所述吸附板（100）上表面外围四周开设有吸气孔（102），所述吸附板（100）上表面放置有晶圆； 所述支撑台（200）固定安装在吸附板（100）下表面，所述支撑台（200）上表面中心位置开设有通孔（201），所述通孔（201）外表面四周开设有对接孔（202），所述支撑台（200）上表面外围四周开设有凹槽（203），所述凹槽（203）内部一侧固定连接有引气管（204），所述支撑台（200）中心位置开设有进气槽（205），所述进气槽（205）内壁下表面四周固定连接有导气管（206），所述支撑台（200）内部开设有导气槽（207），所述导气槽（207）以圆心为轴环形阵列排布，所述导气槽（207）一端延伸至进气槽（205）内部连通有导气管（206），所述导气管（206）表面一侧开设有导气槽（207）； 所述凹槽（203）均匀开设在支撑台（200）上表面四周，引气管（204）开口方向和进气槽（205）内部气体流通方向一致，在引气管（204）将支撑台（200）表面四周气体吸收，所述导气管（206）是呈L型，开口向下，导气槽（207）也是呈L型，且有一定的长度和倾斜度，进而让导气槽（207）和导气管（206）对支撑台（200）表面四周吸收的气体流通速度，相比进气槽（205）内部的气体流通速度较慢，形成高压，大于进气槽（205）的气体流通速度，与进气槽（205）内部形成气压差； 所述外壳（300）内部固定安装有真空泵（301）。

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