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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利图形设计方法和系统、掩膜版的组合产品、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114330171B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011061117.2，技术领域涉及：G06F30/30；该发明授权图形设计方法和系统、掩膜版的组合产品、设备及介质是由吴维维;吴宗晔;王兴荣设计研发完成，并于2020-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本图形设计方法和系统、掩膜版的组合产品、设备及介质在说明书摘要公布了：一种图形设计方法及其系统、掩膜版组合、设备及存储介质，所述图形的形成方法包括双重图形化，图形设计方法包括：提供初始图形，包括多个初始图案；设置临界拆分线宽和临界拆分间距；设定在沿第二方向上的投影相交叠的参考边缘图案；基于临界拆分线宽和临界拆分间距以及初始图案与相邻初始图案或参考边缘图案之间在沿第二方向上的投影相交叠，获得多个待测图案，待测图案与参考边缘图案组成闭合环；获取待测图案的数量作为第一数值；获得闭合环中相邻初始图案之间的间距大于分解图案最小线宽的数量作为第二数值；判断第一数值和第二数值之和是否为奇数。本发明实施例对初始图形是否能够进行双重图形化进行判断，有利于避免双重图形化冲突。

本发明授权图形设计方法和系统、掩膜版的组合产品、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种图形设计方法，所述图形的形成方法包括双重图形化，其特征在于，包括： 提供初始图形，所述初始图形包括多个相间隔的初始图案，所述初始图案沿第一方向延伸，与所述第一方向相垂直的方向为第二方向； 基于双重图形化拆分规则，设置所述初始图案对应的临界拆分线宽和临界拆分间距； 设定参考边缘图案，所述参考边缘图案在沿所述第二方向上的投影相交叠； 基于所述临界拆分线宽和临界拆分间距，以及位于所述参考边缘图案之间且初始图案与相邻初始图案或参考边缘图案之间在沿第二方向上的投影相交叠，获得多个待测图案，所述多个待测图案与参考边缘图案组成闭合环； 获取所述待测图案的数量，作为第一数值； 所述双重图形化拆分规则包括分解图案的最小线宽；获得所述闭合环中相邻待测图案之间的间距、以及待测图案与相邻参考边缘图案之间的间距，大于所述最小线宽的数量，作为第二数值； 判断所述第一数值和第二数值之和是否为奇数； 当所述第一数值和第二数值之和为偶数时，判断所述初始图形能够进行双重图形化。

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