东京毅力科创株式会社竹泽由裕获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利膜形成方法和膜形成装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113053725B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011476465.6，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权膜形成方法和膜形成装置是由竹泽由裕;铃木大介;林宽之;本山丰设计研发完成，并于2020-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本膜形成方法和膜形成装置在说明书摘要公布了：本发明涉及膜形成方法和膜形成装置。[课题]提供可以形成大粒径的多晶硅膜的技术。[解决方案]本公开的一方式的膜形成方法具备如下工序：在基底上形成依次层叠有界面层、主体层和表面层的层叠膜的工序；和，对前述层叠膜进行结晶处理的工序，前述主体层在前述进行结晶处理的工序中由比前述界面层还容易结晶的膜形成，前述表面层在前述进行结晶处理的工序中由比前述主体层还容易结晶的膜形成。
本发明授权膜形成方法和膜形成装置在权利要求书中公布了：1.一种膜形成方法，其具备如下工序： 在基底上形成依次层叠有界面层、主体层和表面层的层叠膜的工序；和， 对所述层叠膜进行结晶处理的工序， 所述主体层在所述进行结晶处理的工序中由比所述界面层还容易结晶的膜形成， 所述表面层在所述进行结晶处理的工序中由比所述主体层还容易结晶的膜形成。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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