中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司严中稳获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115793379B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111054531.5，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质是由严中稳;陈术;陈巧丽;罗连波设计研发完成，并于2021-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供多个设计图形，设计图形包括待检测的待测图形；选择待测图形中待检测的边作为待选边；在待测图形外侧获得待选边所对应的搜索区，搜索区包括以待选边作为其中一边的矩形第一搜索区、以及位于第一搜索区两侧且与第一搜索区邻接的扇形第二搜索区，第二搜索区的圆心与同侧的待选边的端点重合，且圆心角为90度，第二搜索区的半径等于第一搜索区中与待选边相垂直的边的长度；利用搜索区对待测图形外侧进行图形搜索，查看搜索区中是否出现其他设计图形；当搜索区中出现其他设计图形时，待选边被选中，并用于作为待处理边。本发明有利于进行更精准地选边操作。
本发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供多个设计图形，所述设计图形包括待检测的待测图形； 选择所述待测图形中待检测的边作为待选边； 在所述待测图形外侧获得所述待选边所对应的搜索区，所述搜索区包括以所述待选边作为其中一边的矩形第一搜索区、以及位于所述第一搜索区两侧且与所述第一搜索区邻接的扇形第二搜索区，所述第二搜索区的圆心与同侧的所述待选边的端点重合，且圆心角为90度，所述第二搜索区的半径等于所述第一搜索区中与所述待选边相垂直的边的长度； 利用所述搜索区对所述待测图形外侧进行图形搜索，查看所述搜索区中是否出现其他设计图形； 当所述搜索区中出现其他设计图形时，所述待选边被选中，并用于作为待处理边。
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