新阳硅密(上海)半导体技术有限公司史蒂文·贺·汪获国家专利权
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龙图腾网获悉新阳硅密(上海)半导体技术有限公司申请的专利一种单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法及单片旋转清洗设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113948413B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111178794.7，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权一种单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法及单片旋转清洗设备是由史蒂文·贺·汪;刘立安;王亦天;吴仪设计研发完成，并于2021-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法及单片旋转清洗设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法及单片旋转清洗设备，单片旋转清洗设备用于基片的清洗并能够进行实时自检和周期自检，包括机械夹具、旋转机构、光学图像传感器，所述旋转机构上有旋转载台，还包括分析机构，光学图像传感器可以观察基片在旋转过程中的边缘跳动情况，分析机构可以通过分析跳动值来确定设备是否产生故障。还包括标定基片，光学图像光感器可以观察标定基片旋转过程中的图像情况，分析机构可以通过分析所述图像来确定设备是否产生故障。该单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法，可以避免意外情况的发生，及时发现旋转机构产生的机械偏差，有利于提升单片旋转清洗工艺流程的安全性和稳定性。
本发明授权一种单片旋转清洗设备实时自检方法、周期自检方法及单片旋转清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种单片旋转清洗设备实时自检方法，其特征在于，包括以下步骤： S10：预设机械夹具的运动轨迹并校准，使机械夹具能够将基片放置在清洗设备内的旋转载台上，并保证基片的中心线与旋转载台的旋转中心线重合； S20：通过所述机械夹具将待清洗的基片放置在旋转载台上，旋转载台以检测速率进行旋转； S30：通过光学图像传感器观察旋转过程中基片边缘的图像，并记录基片边缘的跳动值Di，所谓跳动值Di是指：当基片的中心线与旋转载台的旋转中心线不重合时，旋转载台在旋转过程中，基片分别位于旋转载台最左边和最右边时，基片边缘之间的最大距离值即为跳动值Di； S40：将基片边缘的跳动值Di与预设值D0进行比较，跳动值Di大于预设值D0时，旋转载台停止运行，清洗设备发出故障信号，跳动值Di小于预设值D0时，旋转载台以预设的清洗速率旋转并正常启动清洗工作,该基片清洗完成后更换新的基片并重复S20-S40步骤。
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