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龙图腾网获悉桂林电子科技大学申请的专利一种可见光波段的高FOM生化传感器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113866126B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111214318.6，技术领域涉及：G01N21/41；该发明授权一种可见光波段的高FOM生化传感器是由郭玲;柳亚捷;杨宏艳;银珊;马峻设计研发完成，并于2021-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可见光波段的高FOM生化传感器在说明书摘要公布了：本发明涉及金属微纳器件领域，具体涉及一种可见光波段的高FOM生化传感器，高低折射率介质层混合结构由上层的低折射率层和下层的高折射率层构成，多个高低折射率介质层混合结构依次连接，低折射率衬底设置于多个高低折射率介质层混合结构底部，石墨烯层的高折射层设置在高低折射率介质层混合结构顶部，石墨烯层本体设置在高折射层顶部，腔结构层设置在石墨烯层顶部，周期性亚波长金属光栅阵列设置在腔结构层顶部。通过优化高低折射率高低折射率介质层混合结构的厚度、腔结构的腔长与腔宽和光栅的宽度与高度和周期性亚波长金属光栅阵列周期的结构参数以调节传感器的灵敏度和品质因数，使传感器的综合评价指标能够达到高水平。

本发明授权一种可见光波段的高FOM生化传感器在权利要求书中公布了：1.一种可见光波段的高FOM生化传感器，其特征在于， 包括多层膜结构、周期性亚波长金属光栅阵列和石墨烯层，所述多层膜结构包括多个高低折射率介质层混合结构和低折射率衬底，所述高低折射率介质层混合结构由上层的低折射率层和下层的高折射率层构成，多个所述高低折射率介质层混合结构依次连接，所述低折射率衬底设置于多个所述高低折射率介质层混合结构底部，所述石墨烯层包括高折射层、石墨烯层本体和腔结构层，所述高折射层设置在所述高低折射率介质层混合结构顶部，所述石墨烯层本体设置在所述高折射层顶部，所述腔结构层设置在所述石墨烯层顶部，所述周期性亚波长金属光栅阵列设置在所述腔结构层顶部；所述高低折射率介质层混合结构的数量为两个，所述高低折射率介质层混合结构的所述低折射率层的厚度为50～200nm，所述高低折射率介质层混合结构中的高折射率层的厚度为200～250nm，所述周期性亚波长金属光栅阵列由多个平行放置的亚波长金属光栅构成，所述亚波长金属光栅的宽度为380～420nm，厚度为30～50nm，阵列周期为450～550nm。

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