上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至汇半导体应用技术有限公司邓信甫获国家专利权
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龙图腾网获悉上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至汇半导体应用技术有限公司申请的专利一种自摆荡晶圆清洗干燥装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114496847B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111675344.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种自摆荡晶圆清洗干燥装置是由邓信甫;陈新来;唐宝国;刘大威;丁立设计研发完成，并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种自摆荡晶圆清洗干燥装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种自摆荡晶圆清洗干燥装置，包括清洗槽以及设置于所述清洗槽内部的摆动机构，所述摆动机构上设置有至少两个晶圆盒承载区，所述晶圆盒承载区用于放置晶圆盒；所述摆动机构包括驱动电机、滑动轨道、滑动块、轴接轨道及摆动臂，所述滑动轨道与所述轴接轨道平行设置，所述滑动轨道位于所述轴接轨道的上方，所述滑动块滑动安装于所述滑动轨道上，所述驱动电机用于控制所述滑动块在所述滑动轨道上进行往复运动。本发明通过摆动机构形成弧形运动路径，使得晶圆在摆荡的过程中，形成特殊的震动、摆动，有效摆幅运动使得清洗设备的设置更加灵活，提高了一般湿法工艺构建的普适性及可行性。
本发明授权一种自摆荡晶圆清洗干燥装置在权利要求书中公布了：1.一种自摆荡晶圆清洗干燥装置，其特征在于，包括清洗槽以及设置于所述清洗槽内部的摆动机构，所述摆动机构上设置有至少两个晶圆盒承载区，所述晶圆盒承载区用于放置晶圆盒； 所述摆动机构包括驱动电机、滑动轨道、滑动块、轴接轨道及摆动臂，所述滑动轨道与所述轴接轨道平行设置，所述滑动轨道位于所述轴接轨道的上方，所述滑动块滑动安装于所述滑动轨道上，所述驱动电机用于控制所述滑动块在所述滑动轨道上进行往复运动， 所述摆动臂至少设置为两个，所述摆动臂包括平行设置的第一支臂与第二支臂，所述第二支臂的长度大于所述第一支臂的长度，所述第一支臂的上部沿长度方向设置有滑动槽，所述滑动块上对应安装有滑动轮，所述滑动轮安装于所述滑动槽内，所述第一支臂的下端与所述轴接轨道上的连接点轴安装，所述晶圆盒承载区设置于所述第二支臂的下端；所述摆动臂的摆动角度范围为15-30度。
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