上海华力集成电路制造有限公司陈宪宏获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利提升成像对比度的光学邻近效应修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115494693B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211164126.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权提升成像对比度的光学邻近效应修正方法是由陈宪宏;曾鼎程;胡展源设计研发完成，并于2022-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本提升成像对比度的光学邻近效应修正方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种提升成像对比度的光学邻近效应修正方法，提供目标图形，光学修正目标图形得到光罩图形，获取光罩图形的曝光后图形，使得曝光后图形与目标图形的边缘放置误差小于第一阈值；形成切线，判断切线两侧的曝光后图形的空间图像对比度是否大于第二阈值；若是，则继续修正光罩图形，使得其边缘放置误差小于第一阈值、空间图像对比度大于第二阈值，之后出版光罩图形；若否，则出版光罩图形。本发明的方法在完成光学邻近效应修正后,将空间影像对比度低的版图选取出来,除了目标关键尺寸外,新增了空间影像对比度当成指标,引导最终收敛的掩模版版图有较大的成像对比度,进而降低断线的风险。
本发明授权提升成像对比度的光学邻近效应修正方法在权利要求书中公布了：1.一种提升成像对比度的光学邻近效应修正方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、提供目标图形，光学修正所述目标图形得到光罩图形，获取所述光罩图形的曝光后图形，使得所述曝光后图形与所述目标图形的边缘放置误差小于第一阈值； 步骤二、形成切线，并基于判断所述切线两侧的所述曝光后图形的空间图像对比度进行判断是否大于第二阈值；所述切线形成于所述光罩图形上的角线段图形底边的中点上，使得所述曝光后图形沿所述切线两侧的局部或全部图形形状趋近于相同，所述角线段图形为所述光罩图形下凹处的图形；所述角线段图形为两个，两个所述角线段图形互为对称结构；其中，所述空间图像对比度是指在具有明暗图像的区域内，光强最大值与光强最小值之差除以两者之和得到的比值； 若所述空间图像对比度不大于所述第二阈值，则继续修正所述光罩图形，使得其边缘放置误差小于所述第一阈值、所述空间图像对比度大于所述第二阈值，之后出版所述光罩图形； 若所述空间图像对比度大于所述第二阈值，则出版所述光罩图形。
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