武汉华星光电技术有限公司林志聪获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利防窥膜及显示终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117950218B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410184253.2，技术领域涉及：G02F1/13；该发明授权防窥膜及显示终端是由林志聪;叶文龙设计研发完成，并于2024-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本防窥膜及显示终端在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种防窥膜及显示终端，显示终端包括显示面板、背光模组以及防窥膜，防窥膜位于显示面板和背光模组之间，防窥膜包括基底和多个调光件，基底开设有多个凹槽，相邻两个凹槽间隔设置；一调光件对应一凹槽设置，调光件包括调光层和设置于调光层两侧的第一透明电极层和第二透明电极层，通过设置调光层的折射率与第一透明电极层和第二透明电极层之间电场强度呈正相关，且调光层的最小折射率大于基底的折射率，从而通过控制调光层的折射率，来控制背光模组射入调光层中的光线的传播方向，进而实现显示终端的宽视角和窄视角的切换。
本发明授权防窥膜及显示终端在权利要求书中公布了：1.一种防窥膜，其特征在于，包括： 基底，开设有多个凹槽，相邻两个所述凹槽间隔设置； 多个调光件，一所述调光件对应一所述凹槽设置，所述调光件包括调光层和设置于所述调光层两侧的第一透明电极层和第二透明电极层，所述调光层的折射率与所述第一透明电极层和所述第二透明电极层之间电场强度呈正相关，且所述调光层的最小折射率大于所述基底的折射率； 其中，当所述第一透明电极层和所述第二透明电极层之间的电场强度配置为0或未配置电场时，所述调光层具有第一折射率，当所述第一透明电极层和所述第二透明电极层之间的电场强度配置为非0时，所述调光层具有第二折射率； 防窥角度与所述调光层的折射率满足以下公式： 其中，θ1`为防窥角度，n1为所述基底的折射率，n2为所述调光层的第一折射率，n2i为所述调光层的第二折射率。
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