中国矿业大学(北京)程洁获国家专利权
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龙图腾网获悉中国矿业大学(北京)申请的专利一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118791973B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410792194.7,技术领域涉及:C09G1/02;该发明授权一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法是由程洁;苗钦华;葛世荣;邓久帅;任小勇设计研发完成,并于2024-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法,所述化学机械抛光液由1‑10wt.%的磨料、0.5‑5wt.%的氧化剂、10‑150mmolL的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成,所述络合剂为柠檬酸或柠檬酸盐。本发明的化学机械抛光液选用合适的氧化剂、络合剂种类和浓度配比,在抛光液中化学物质的化学反应和磨粒的机械磨损协同作用下,提高金属钛的材料去除速率,并获得优质光滑的表面在钴互连阻挡层钛的CMP工艺中具有广阔的应用前景。
本发明授权一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法在权利要求书中公布了:1.一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液,其特征在于,由5wt.%的磨料、3wt.%的过氧化氢、100mmolL的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成,所述络合剂为柠檬酸钾,所述磨料为胶体二氧化硅,所述胶体二氧化硅的颗粒粒径为20-100nm,所述化学机械抛光液的pH为8。
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