武汉船用机械有限责任公司程浩宇获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉船用机械有限责任公司申请的专利一种电路板视觉去高光异常状态检测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119251134B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411052783.8,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权一种电路板视觉去高光异常状态检测方法是由程浩宇;侯志岩;袁德焱设计研发完成,并于2024-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电路板视觉去高光异常状态检测方法在说明书摘要公布了:一种电路板视觉去高光异常状态检测方法,包括以下步骤:第一步:先得到包括高光的电路板图片;第二步:先对电路板图片进行特征提取,然后将特征图与纯黑图片进行融合;第三步:先由第一融合模块得到第一特征图,再由第二融合模块得到第二特征图,然后由第三融合模块对第一特征图、第二特征图进行融合,以将亮度较亮的高光特征融合为亮度正常的高光特征,再输出特征图;第四步:输出高光亮度正常的电路板图片;避免高光区域的影响后,电路板表面的细节清晰可见,故清晰度较高;对电路板图片进行了多次特征提取,故图片中有用细节较多,便于后续对电路板图片的检测。因此,本设计的电路板图片的清晰度较高,便于后续对电路板图片的检测。
本发明授权一种电路板视觉去高光异常状态检测方法在权利要求书中公布了:1.一种电路板视觉去高光异常状态检测方法,其特征在于:所述检测方法包括以下步骤: 第一步:先对电路板(9)进行拍摄以得到包括高光的电路板图片(91); 第二步:先由特征提取模块(1)对电路板图片(91)进行特征提取,以输出特征图,再由调整及池化模块(2)对特征图中的有用特征进行提取,以避免有用特征在下一步骤中丢失,然后由调整及池化模块(2)对特征图进行尺寸调整,再由调整及池化模块(2)将特征图输出为向量特征图;然后由连接模块(3)将向量特征图中的特征进行综合,得到全局特征图,再由连接模块(3)将全局特征图与纯黑图片进行融合,以降低全局特征图的亮度,得到暗特征图; 第三步:先由第一融合模块(4)将暗特征图与电路板图片(91)进行融合得到第一特征图,此时,第一特征图中的有用特征被增强;再由第二融合模块(5)对暗特征图中的有用特征进行提取,以避免有用特征在下一步骤中丢失,然后由第二融合模块(5)对暗特征图进行尺寸调整,再由第二融合模块(5)对暗特征图进行特征提取,得到第二特征图;然后由第三融合模块(6)对第一特征图、第二特征图的有用特征进行提取,以避免有用特征在下一步骤中丢失,再由第三融合模块(6)对第一特征图、第二特征图进行融合,此时,第二特征图中亮度较暗的高光特征与第一特征图中亮度较亮的高光特征进行融合,得到亮度正常的高光特征,再由第三融合模块(6)输出包括亮度正常的高光特征的特征图; 第四步:先由输出图像模块(7)对特征图进行多次特征提取,以增强有用特征,再由输出图像模块(7)减少特征图中的无用特征,然后由输出图像模块(7)对特征进行多次综合后输出高光区域亮度正常的电路板图片(91)。
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