Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 台积电(中国)有限公司;台湾积体电路制造股份有限公司张伟获国家专利权

台积电(中国)有限公司;台湾积体电路制造股份有限公司张伟获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉台积电(中国)有限公司;台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利半导体装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223297946U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422394432.7,技术领域涉及:H10D89/60;该实用新型半导体装置是由张伟;桂林春;朱继平设计研发完成,并于2024-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

半导体装置在说明书摘要公布了:一种半导体装置包括n型埋层、第一N阱区、p型体区、第一源极漏极区、第二源极漏极区、栅极结构、第二N阱区及第一硅化物区。该n型埋层位于基板中。该第一N阱区位于该n型埋层上方。该p型体区与该第一N阱区相邻。该第一源极漏极区位于该第一N阱区中。该第二源极漏极区位于该p型体区中。该栅极结构延伸跨越该第一N阱区及该p型体区的边界。该第二N阱区位于该n型埋层上方。该第一硅化物区与该第二N阱区形成肖特基接触。

本实用新型半导体装置在权利要求书中公布了:1.一种半导体装置,其特征在于,包含: 一n型埋层,位于一基板中; 一第一N阱区,位于该n型埋层上方; 一p型体区,与该第一N阱区相邻; 一第一源极漏极区,位于该第一N阱区中; 一第二源极漏极区,位于该p型体区中; 一栅极结构,延伸跨越该第一N阱区及该p型体区的一边界; 一第二N阱区,位于该n型埋层上方;及 一第一硅化物区,与该第二N阱区形成一肖特基接触。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人台积电(中国)有限公司;台湾积体电路制造股份有限公司,其通讯地址为:201616 上海市松江区文翔路4000号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。